[发明专利]图案化磁介质及其制造方法

权利要求书

1.一种形成图案化磁介质的方法，包括：

在盘衬底上沉积材料，所述盘衬底用于数据存储装置；

使用纳米压印掩模纳米压印该盘衬底上的所述材料；

在所述纳米压印期间，将所述材料处理成部分固化的材料；

移除所述纳米压印掩模；

将所述部分固化的材料处理成基本固化的材料；以及

在所述基本固化的材料上沉积磁材料。

2.根据权利要求1的方法，其中所述材料包括氢倍半硅氧烷。

3.根据权利要求1的方法，其中所述材料包括聚酰胺。

4.根据权利要求1的方法，其中所述材料包括含硅抗蚀剂。

5.根据权利要求1的方法，其中所述处理包括利用电子束。

6.根据权利要求1的方法，其中所述处理包括利用辐照。

7.一种图案化介质盘，包括：

盘衬底；

沉积在所述盘衬底上的材料，其中所述材料被纳米压印且所述材料被转化成基本固化的材料；以及

沉积在所述基本固化的材料上的磁材料，

其中所述材料在被纳米压印时开始被转化，

其中所述转化在所述纳米压印期间进行，且

其中所述转化在所述纳米压印之后结束。

8.根据权利要求7的图案化介质盘，其中所述材料包括氢倍半硅氧烷。

9.根据权利要求7的图案化介质盘，其中所述材料包括聚酰胺基聚合物。

10.根据权利要求7的图案化介质盘，其中所述材料包括含硅抗蚀剂。

11.根据权利要求7的图案化介质盘，其中所述基本固化的材料包括二氧化硅。

12.根据权利要求7的图案化介质盘，其中通过选自由电子束、热处理、光学处理、辐照、以及冷却构成的组的工艺，将所述材料转化成所述基本固化的材料。