[发明专利]一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法及系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种密封结构的检漏方法及系统，具体涉及一种可应用在放射性场合的通过非接触的方式实时检测动密封的密封有效性的方法及系统。

背景技术

双层填料密封结构一般用于轴密封装置中，包括设置在主轴与填料函之间的上层填料和下层填料，填料密封组件与机械密封组件相配合实现机械设备轴部的密封功能。

常用的密封检漏技术如压力变化检漏方法、气泡检漏方法及氦质谱检漏法等都是应用于静态密封设备，而对于需要实时监测的动态密封装置(如双层填料密封结构)无法应用，特别是在放射性环境下，采用具有非金属材料的一般检测元件直接测量被密封流体的泄漏量是行不通的。对放射性物质密封要求的严格性使得必须实时监测密封装置的密封效果。

发明内容

针对现有技术中所存在的不足，为解决放射性环境下的动密封检漏难题，实现动密封效果的实时监测，本发明的目的在于提供一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法及系统，用于实时监测动密封装置的密封效果。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案如下所描述：

一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法，包括以下步骤：

(1)在双层填料间设置填料支架，填料支架将双层填料分隔开并形成一个密闭腔室；

(2)在密闭腔室上分别开设进气管及出气管，由气源通过进气管对密闭腔室供气，使密闭腔室成为具有一定压力的密闭气腔室；

(3)由设置在热室之外的压力变送器测量密闭气腔室的压力，若压力变送器测量的压力数值与气源压力相等，则判定填料密封效果良好；若压力变送器测量的压力数值与气源压力不相等，则判定有气体从密闭气腔室内泄漏。

进一步，所述的压力变送器通过出气管测量密闭气腔室的压力。

进一步，所述的气源始终保持供气状态。

进一步，所述气源经过气路阀门及过滤器对双层填料密封结构的密闭腔室供气。

进一步，在所述进气管的前方设置调压阀，通过所述调压阀来调节进入密闭腔室的气压。

一种双层填料密封结构的非接触式检漏系统，包括设置在旋转轴与填料函之间的上层填料和下层填料，其特征在于：在上层填料和下层填料之间设置填料支架，所述填料支架外侧设有环形凹槽，该环形凹槽与填料函的内壁之间形成一个密闭腔室，所述密闭腔室上分别开设进气管及出气管，在密闭腔室之外设置气源及压力变送器，所述气源与进气管相连接，所述压力变送器与出气管相连。

进一步，所述气源经过气路阀门及过滤器与进气管相连接。

进一步，所述进气管的前方设置调压阀，所述调压阀与过滤器相连接。

本发明的有益效果如下：通过在双层填料密封结构之间设置填料支架，将双层填料分隔开并形成一个密闭腔室，在密闭腔室上分别开设进气管及出气管，由气源通过进气管对密闭腔室供气，由与出气管相连的设置在热室之外的压力变送器测量密闭气腔室的压力。本发明根据气体流量与密封间隙的关联性，利用压力变送器检测到的气体压力变化来判定密封结构的泄漏量，从而能够实现实时监测放射性场合动密封装置的密封效果。

附图说明

图1为本发明双层填料密封结构的主体剖视图；

图2为本发明双层填料密封结构的非接触式检漏系统的结构图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例来对本发明进行描述。

本发明公开的双层填料密封结构的非接触式检漏方法及系统，其中，双层填料密封结构如图1所示，上层填料1和下层填料4位于旋转轴2与填料函7之间，被密封液体处于上层填料1的上端，在上层填料1和下层填料4之间设置填料支架6，填料支架6外侧设有环形凹槽，该环形凹槽与填料函7的内壁之间形成一个密闭腔室，在腔室上分别开设进气管3及出气管5，气源8经过气路阀门及过滤器进入到双层填料密封结构的密闭腔室内，形成具有一定压力的密封气腔室13。气源是指空气压缩站，由空气压缩站进行供气。压力变送器9设置在热室之外，气腔室13的压力经过出气管5传输至压力变送器9，在填料密封装置正常工作时，气腔13内的压力稳定，压力变送器9的测量数值与气源压力相等；当旋转轴2与填料层1、4间由于磨损使间隙过大后，气体会从气腔内泄漏，此时压力变送器9测得的压力数值将出现变化。在实施过程中，气源8要始终保持供气状态.因此，本发明能够通过密封腔室内气体的压力变化来得到密封间隙量的改变，根据气体流量与密封间隙的关联性，通过压力变送器测量气腔内压力的变化，判定填料密封装置的泄漏量，从而测定动密封的密封效果。