[发明专利]试剂制备装置、试剂制备方法及样本处理装置有效
申请号: | 201210065060.2 | 申请日: | 2012-03-13 |
公开(公告)号: | CN102680718A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 池田穣;中西利志 | 申请(专利权)人: | 希森美康株式会社 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00 |
代理公司: | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人: | 刘良勇 |
地址: | 日本兵库县神户市*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 试剂 制备 装置 方法 样本 处理 | ||
1.一种试剂制备装置,包括:
试剂制备部件,用于制备在样本处理中所用的试剂;
测量部件,用于测量所述试剂制备部件制备的试剂的特性;
废弃部件,用于废弃所述测量部件的测量结果不符合一定条件的试剂;及
控制部件,用于控制所述试剂制备部件的试剂制备作业,其中
当所述测量部件的测量结果不符合所述一定条件的次数达到指定的复数次时,所述控制部件停止所述试剂制备部件的试剂制备作业。
2.根据权利要求1所述试剂制备装置,其特征在于:
每当所述试剂制备部件制备试剂时,所述控制部件都判断所述测量部件的测量结果是否符合所述一定条件。
3.根据权利要求1所述试剂制备装置,其特征在于:
当所述测量部件的测量结果连续地不符合所述一定条件的次数达到所述指定的复数次时,所述控制部件停止所述试剂制备部件的试剂制备作业。
4.根据权利要求1~3其中任意一项所述试剂制备装置,其特征在于:
当所述测量部件的测量结果不符合所述一定条件、且出现以下任意一种情况时,所述控制部件停止所述试剂制备部件的试剂制备作业:
(a)当所述测量部件的测量结果符合用于表示试剂不适于样本处理的程度为第一等级的条件的次数达到所述指定的作为第一次数的复数次时;及
(b)当所述测量部件的测量结果符合用于表示试剂不适于样本处理的程度为高于所述第一等级的第二等级的条件的次数达到比所述第一次数少的指定的第二次数时。
5.根据权利要求4所述试剂制备装置,其特征在于:
每当所述测量部件的测量结果符合以下条件时,所述控制部件就停止所述试剂制备部件的试剂制备作业:表示达到所述第二等级的条件。
6.根据权利要求4所述试剂制备装置,其特征在于:
当所述测量部件的测量结果不在第一数值范围内时,所述控制部件就判断为所述测量部件的测量结果不符合所述一定条件,
当所述测量部件的测量结果在不同于第一数值范围的第二数值范围内时,所述控制部件就判断为所述测量部件的测量结果符合以下条件:表示达到所述第一等级的条件,
当所述测量部件的测量结果在不同于第一、第二数值范围的第三数值范围内时,所述控制部件就判断为所述测量部件的测量结果符合以下条件:表示达到所述第二等级的条件。
7.根据权利要求1~3其中任意一项所述试剂制备装置,其特征在于:
当所述测量部件的测量结果不符合所述一定条件的次数达到所述指定的复数次时,所述控制部件停止所述试剂制备部件的试剂制备作业,并根据用户的指示,使所述试剂制备部件实施还原作业,以便重新开始试剂制备作业。
8.根据权利要求1~3其中任意一项所述试剂制备装置,包括:
显示部分,其中
当所述试剂制备部件的试剂制备作业因所述测量部件的测量结果而连续停止到达作为第三次数的指定次数时,所述控制部件控制所述显示部分显示警告信息,该警告信息表示所述试剂制备部件很可能发生了故障的信息。
9.根据权利要求8所述试剂制备装置,其特征在于:
当所述测量部件的测量结果既符合所述一定条件又符合第二条件的次数达到作为第四次数的指定的复数次时,所述控制部件控制所述显示部分显示警告信息,该警告信息表示所述试剂制备部件以后很可能会发生故障。
10.根据权利要求1~3其中任意一项所述试剂制备装置,包括:
存储器,其中
所述控制部件在所述存储器中存储以下内容:所述测量部件对所述试剂制备部件制备的各个试剂进行测量的测量结果是否符合所述一定条件。
11.根据权利要求1~3其中任意一项所述试剂制备装置,包括:
试剂储存部件,用于储存所述试剂制备部件制备的试剂以便将其供应用于样本处理,其中
所述废弃部件配置的位置使其能够在所述试剂制备部件制备的试剂供应到所述试剂储存部件之前就能够废弃所述试剂。
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