[发明专利]球形二维角度光学调整架无效
| 申请号: | 201210064932.3 | 申请日: | 2012-01-13 |
| 公开(公告)号: | CN102590971A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
| 发明(设计)人: | 孟艳玲;吕德胜;汪斌;屈求智;赵剑波;刘亮 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | G02B7/00 | 分类号: | G02B7/00 |
| 代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
| 地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 球形 二维 角度 光学 调整 | ||
技术领域
本发明涉及光学调整架,特别是一种球形二维角度光学调整架。
背景技术
传统的二维角度光学调整架基本是方形结构,主要由一个方形的支撑板和一个方形的半球台形调节板构成。在对角线位置的两个细牙螺钉安装在支撑板上,对半球台形调节板是向外顶的力;滚珠作为调节支点在另外一个角上;在滚珠和细牙螺钉之间均布两个弹簧,其对半球台形调节板则是向内拉的力。使用时,由于滚珠(调节支点)的存在,向顺时针旋转细牙螺钉时它的顶力使半球台形调节板向一个方向转动,而逆时针旋转细节螺钉时弹簧的拉力则会使半球台形调节板向反方向转动。
传统的调整架能满足一般的实验室需求,但由于支撑板和半球台形调节板之间是点接触,半球台形调节板因自重易使方位角发生微变,改变光路方向;其次,这种调整架的抗震动能力差,不适合恶劣的环境使用,可靠性低。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种球形二维角度光学调整架,该球形二维角度光学调整架具有稳定性好,可靠性高的特点。
本发明是通过如下技术方案来达到的:
一种球形二维角度光学调整架,特征在于其构成包括:半球台形调节板、具有一个半球形内腔的支撑体和圆形盖板:
所述的半球台形调节板的台面为所述的半球台形调节板的正面,该半球台形调节板的背面边缘均匀分布四个圆柱形凹槽,
所述的支撑体正面的中间有一个圆形通孔,该通孔在所述的支撑体内形成半球形内腔,所述的半球台形调节板置于所述的支撑体的半球形内腔中且所述的半球台形调节板的台面通过所述的通孔朝外,所述的半球台形调节板的球面和所述的支撑体半球形内腔具有相同的曲率半径,所述的半球台形调节板的球心与所述的支撑体的半球形内腔的球心相重合;
所述的圆形盖板的周边多个螺钉固定在所述的支撑体的后端面上,该圆形盖板的中间设有四个中心对称的螺孔与所述的半球台形调节板背面的四个圆柱形凹槽相对应,第一调节螺杆、第二调节螺杆、第一固定螺杆和第二固定螺杆分别通过四个中心对称的螺孔旋设在所述的圆柱形凹槽中,所述的第一固定螺杆、第二固定螺杆上分别套装了处于压缩状态的第一弹簧和第二弹簧,第一调节螺杆、第二调节螺杆、第一固定螺杆和第二固定螺杆对所述的半球台形调节板在所述的支撑体的半球形内腔的位置进行定位或调节。
所述的半球台形调节板的台面为供光学元件贴设的平面或供光学元件卡设的光学元件卡槽。
本发明的特点和技术效果如下:
本发明半球台形调节板置于支撑体内,排除了重力影响引起的方位角微变,提高了调整架的稳定性;固定螺杆和调节螺杆可以锁紧装置,半球台形调节板与支撑体为面接触,抗震性提高,可靠性有了保证。
附图说明
图1是本发明球形二维角度光学调整架一个实施例的后视图。
图2是图1的A—A剖面图。
图3为半球台形调节板的前视图。
图4为半球台形调节板的A—A剖面图。
具体实施方式
下面结合实施例和附图对本发明作进一步说明,但不应以此限制本发明的保护范围。
先请参阅图1、2、3、4,图1是本发明球形二维角度光学调整架的后视图。
其中2为支撑体,3为盖板,51、52为调节螺杆,61、62为固定螺杆,71、72、73、74为盖板与支撑体的紧固螺杆。
图2是图1的A—A剖面图。
其中1为半球台形调节板,2为支撑体,3为盖板,4为镜片,51、52为调节螺杆,61、62为固定螺杆,81为套在固定螺杆61上的弹簧,82为套在固定螺杆62上的弹簧,21为支撑体上半球台形调节板赖以旋转的弧形内壁。
图3为半球台形调节板的前视图。
其中13,14,15,16为圆柱形凹槽。
图4为半球台形调节板的A—A剖面图。
其中11为半球台形调节板的背面,12为正面,13,14,15,16为圆柱形凹槽,17为安装镜片的凹槽。
由图可见,本发明球形二维角度光学调整架,其构成包括:半球台形调节板1、具有一个半球形内腔的支撑体2和圆形盖板3:
所述的半球台形调节板1的台面为所述的半球台形调节板1的正面,该半球台形调节板的背面边缘均匀分布四个圆柱形凹槽13,14, 15,16,
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210064932.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种桉叶不饱和脂肪酸提取方法
- 下一篇:一种无污染水性防锈涂料





