[发明专利]虚拟博物馆系统及其藏品展示方法有效

专利信息
申请号: 201210064295.X 申请日: 2012-03-12
公开(公告)号: CN102708138A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 吴波;刘碧珊;林秀全 申请(专利权)人: 上海创图网络科技发展有限公司
主分类号: G06F17/30 分类号: G06F17/30
代理公司: 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 代理人: 刘云贵
地址: 200072 上海市闸北*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 虚拟 博物馆 系统 及其 藏品 展示 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及虚拟现实领域,特别涉及一种虚拟博物馆系统及其藏品展示方法。

背景技术

据统计中国已登记在册的文物点约有35万处,收藏于各类博物馆当中的文物达1200万件,每年还有大量的文物出土,但由于受时间、空间以及保存条件、保护技术等诸多限制,能够展出和提供研究的文物仅占极少部分。例如,南京博物馆收藏的藏品多达41万件,而常年展出的仅有5千件,不足1.25%。因此,如何更好地发挥博物馆展示、教育和研究的功能,更好地服务于社会大众,推进博物馆的自身发展,是一个亟待解决的问题。

虚拟现实技术的出现从一定程度上解决了上述问题。目前,已经可以通过网络技术构筑虚拟博物馆,从而打破了实体博物馆的局限性,满足了社会大众的部分需求。

目前的虚拟博物馆一般是通过三维网页技术,如web3d构建的。在现有的虚拟博物馆系统中,所有的场景以及展品模型均为固态化搭建,因此,对于一个展品来说,必须陈列在固定的场馆和展台上,不可变更。而且,这样的虚拟博物馆内关于场馆和展品的相关数据均为静态数据,不可维护、查找。因此,现有的虚拟博物馆系统的展品状态等信息无法更改,导致其可用性、时效性不强。

发明内容

本发明提供了一种虚拟博物馆系统及其藏品展示方法,用以解决现有技术中的虚拟博物馆系统的展品状态等信息无法更改,导致其可用性、时效性不强的问题。

一种虚拟博物馆系统,包括:

存储装置,用于分别存储三维网页形式的虚拟场馆、展台和藏品、以及与虚拟场馆、展台和藏品对应的介绍信息,其中,通过三维网页脚本程序将所述三维网页形式的虚拟场馆和展台组合为虚拟展示场景,所述三维网页形式的藏品存储在藏品库中;

后台调控装置,用于根据接收到的博物馆调控员的调控指令,对藏品库中的藏品进行调控,所述调控指令包括:设置/修改藏品的展示状态、设置/修改藏品的介绍信息,其中,所述展示状态包括:参展和撤展;

前端用户操作装置,用于根据接收到的用户指令,显示藏品库中存储的藏品。

一种虚拟博物馆藏品展示的方法,包括以下步骤:

分别建立三维网页形式的虚拟场馆、展台和藏品,通过三维网页脚本程序将所述三维网页形式的虚拟场馆和展台组合为虚拟展示场景,并将三维网页形式的藏品存储在藏品库中;

根据接收到的博物馆调控员的调控指令,对藏品库中的藏品进行调控,所述调控指令包括:设置/修改藏品的展示状态、设置/修改藏品的介绍信息,其中,所述展示状态包括:参展和撤展。

采用本实施例中的虚拟博物馆系统及其藏品展示方法,分别建立三维网页形式的场馆、展台和藏品,并且,将所述三维网页形式的场馆和展台通过三维网页脚本程序组合为包含场馆和展台的虚拟展示场景,同时将所述三维网页形式的藏品单独存储在独立于虚拟展示场景的藏品库中。这样,则可以将藏品单独进行管理,从而可以为藏品设置展示状态并修改展示信息,提高了该虚拟博物馆系统的可用性和时效性。

附图说明

图1为本发明实施例中一个实施例的虚拟博物馆的结构图;

图2为本发明实施例中另一实施例的虚拟博物馆的结构图;

图3a至图3e为本发明实施例中调控员通过后台调控装置执行相关操作时的操作界面;

图4a至图4d为本发明实施例中前端用户操作装置的引导界面;

图5a至图5e为本发明实施例中用户查看藏品时,前端用户操作装置的显示界面;

图6a至图6f为本发明实施例中用户查看场馆时,前端用户操作装置的显示界面;

图7为本发明实施例提供的虚拟博物馆藏品展示的方法流程图。

具体实施方式

本发明实施例提供了一种虚拟博物馆系统及其藏品展示方法,可以解决现有技术中的虚拟博物馆系统的展品状态等信息无法更改,导致其可用性、时效性不强的问题。

本发明实施例提供的一种虚拟博物馆系统,如图1所示,包括:

存储装置11,用于分别存储三维网页形式的虚拟场馆、展台和藏品以及与虚拟场馆、展台和藏品对应的介绍信息,其中,通过三维网页脚本程序将所述三维网页形式的虚拟场馆和展台组合为虚拟展示场景,所述三维网页形式的藏品存储在藏品库中;

后台调控装置12,用于根据接收到的博物馆调控员的调控指令,对藏品库中的藏品进行调控,所述调控指令包括:设置/修改藏品的展示状态、设置/修改藏品的介绍信息;其中,所述展示状态包括:参展和撤展;

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