[发明专利]光学系统内部腔室精密气体控制方法及其装置

权利要求书

1.一种光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述控制装置包括：

光学系统，所述光学系统两端分别设置进气口和排气口，所述光学系统内部腔室充入净化气体；

气体控制回路，与所述光学系统连通，用于控制光学系统内部腔室的气体，所述气体控制回路采用控制参数解耦方法设计，所述气体控制回路包括向所述光学系统输入净化气体的供气回路和用以排除所述光学系统内清洗气体的排气回路。

2.如权利要求1所述的光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述供气回路包括控制装置和与所述控制装置连接的辅助器件，所述控制装置进一步包括依次顺序连接的热交换器、一级减压阀、二级减压阀、毛细管，以及恒温热交换器；所述净化气体来自光学系统的外部输入气源；所述辅助元器件进一步包括设置在光学系统的外部输入气源与所述热交换器之间的开关阀、设置在所述热交换器与所述一级减压阀间并用于检测输入净化气体压力的第一压力传感器、设置在所述二级减压阀与所述毛细管之间并用于检测输入净化气体流量的流量传感器，以及设置在所述毛细管与所述恒温热交换器之间并用于对净化气体进一步净化的纯化器。

3.如权利要求2所述的光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述气体控制回路中还包括具有单向节流功能的测试口，且所述测试口包括设置在所述一级减压阀和二级减压阀之间的第一测试口、设置在所述二级减压阀和所述流量传感器之间的第二测试口、设置在所述纯化器和所述恒温热交换器之间的第三测试口，以及设置在所述光学系统的投影物镜上的第四测试口。

4.如权利要求3所述的光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述光学系统内部腔室精密气体控制装置进一步包括与所述光学系统连接，并用于采集光学系统内部压力的第二压力传感器，置于所述二级减压阀与所述毛细管之间的流量传感器，连接所述第二压力传感器与所述流量传感器的控制器，以及与所述控制器连接的电控阀。

5.如权利要求1所述的光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述光学系统进气口一侧的内部腔室设置进气均流部件，且在所述进气均流部件上开设若干进气均流小孔。

6.如权利要求1所述的光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述光学系统排气口一侧的内部腔室设置排气均流部件，且在所述排气均流部件上开设若干排气均流小孔。

7.如权利要求1所述的光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述光学系统为投影物镜。

8.如权利要求2所述的光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述外部输入气源为惰性气体。

9.如权利要求2所述的光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述外部输入气源为压缩气体。

10.如权利要求1所述的光学系统内部腔室精密气体的控制方法，其特征在于，所述控制方法包括气体控制回路控制参数解耦方法，所述控制参数解耦方法包括：

给出气体控制回路的控制参数集；

对控制参数集中的各参数进行敏感性分析；

对控制参数集中的各参数进行相对独立性分析；

在气体控制回路上对控制参数进行初次分段；

为每段控制参数选择控制装置；

判断每段控制装置的可行性，若可行，气体控制回路构建完成，若不可行，针对每段控制参数进行二次分段；

为二次分段后的每段控制参数选择控制装置；

判断每段控制装置的可行性，若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，进行再分段，直至可行。