[发明专利]有机发光显示设备在审

专利信息
申请号: 201210061292.0 申请日: 2012-03-09
公开(公告)号: CN103066211A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 朴明绪 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L27/32
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 于未茗;宋志强
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机 发光 显示 设备
【权利要求书】:

1.一种有机发光显示设备,包括:

位于基板上的彼此隔开的多个第一电极;

布置在所述基板上的像素限定层,所述像素限定层部分地暴露所述第一电极;

布置在所述像素限定层和所暴露的第一电极上的第一中间层;

形成在所述第一中间层的与所述像素限定层的上表面重叠的部分上的含氟层,所述含氟层包括从所述像素限定层或所述第一中间层扩散的氟;

至少部分地布置在所述第一中间层的上面不包括所述含氟层的部分上的发射层;以及

布置在所述发射层上的第二电极。

2.根据权利要求1所述的有机发光显示设备,其中所述第一中间层包括与所暴露的第一电极重叠的第一图案和与所述像素限定层重叠的第二图案。

3.根据权利要求2所述的有机发光显示设备,其中所述第二图案具有比所述第一图案的电导率低的电导率或比所述第一图案的电阻高的电阻。

4.根据权利要求2所述的有机发光显示设备,其中所述第二图案具有比所述第一图案的上表面高的上表面。

5.根据权利要求2所述的有机发光显示设备,其中所述含氟层形成在所述第二图案上。

6.根据权利要求2所述的有机发光显示设备,其中所述第一中间层进一步包括与所述基板的位于彼此隔开的相邻第一电极之间的部分重叠的第三图案。

7.根据权利要求6所述的有机发光显示设备,其中所述第三图案具有比所述第一图案的电导率低的电导率或比所述第一图案的电阻高的电阻。

8.根据权利要求6所述的有机发光显示设备,其中所述含氟层包括布置在所述第二图案上的第一含氟层和布置在所述第三图案上的第二含氟层。

9.根据权利要求6所述的有机发光显示设备,其中所述第三图案具有比所述第一图案的上表面高的上表面。

10.根据权利要求1所述的有机发光显示设备,进一步包括:

位于所述基板上的引线,所述引线与所述第一电极隔开;以及

在所述第二电极和所述基板上布置并延伸的第三电极,所述第三电极电连接至所述引线;

其中所述第三电极通过一绝缘层图案与所述第一电极隔开,所述绝缘层图案包括所述像素限定层和所述第一中间层。

11.根据权利要求10所述的有机发光显示设备,其中所述绝缘层图案和所述第二电极共享公共的刻蚀表面。

12.一种有机发光显示设备,包括:

位于基板上的彼此隔开的多个第一电极;

位于所述基板上的覆盖所述第一电极的第一中间层;

布置在所述第一中间层上的发射层,所述发射层与所述第一电极重叠;以及

布置在所述发射层上的第二电极;

其中所述第一中间层包括:

与所述第一电极重叠的第一图案;

限制所述发射层的横向部分的第二图案;以及

与所述基板的位于彼此隔开的相邻第一电极之间的部分重叠的第三图案,所述第三图案具有比所述第一图案的电导率低的电导率或比所述第一图案的电阻高的电阻。

13.根据权利要求12所述的有机发光显示设备,其中所述发射层在所述多个第一电极上方连续延伸。

14.根据权利要求12所述的有机发光显示设备,其中所述发射层由所述第二图案和所述第三图案限制,从而具有岛形。

15.根据权利要求12所述的有机发光显示设备,其中所述第三图案具有比所述第一图案的亲墨性低的亲墨性。

16.根据权利要求12所述的有机发光显示设备,进一步包括布置在所述第三图案上的含氟层。

17.根据权利要求16所述的有机发光显示设备,其中所述含氟层包括从所述第一中间层扩散的氟。

18.根据权利要求12所述的有机发光显示设备,其中所述第三图案具有比所述第一图案的上表面高的上表面。

19.根据权利要求12所述的有机发光显示设备,其中所述第二图案具有比所述第一图案的亲墨性低的亲墨性。

20.根据权利要求12所述的有机发光显示设备,进一步包括布置在所述第二图案上的含氟层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210061292.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top