[发明专利]铝铜膜的物理气相沉积方法

权利要求书

1.一种铝铜膜的物理气相沉积方法，包括：

将衬底送入处理腔室，在所述衬底表面进行铝铜膜沉积；

其中，所述处理腔室包括腔体、作为阴极的铝铜靶材、作为阳极的衬底基座；所述铝铜靶材背面设有磁控配件组，所述腔体中设有第一冷却水系统，所述磁控配件组内部设有第二冷却水系统，所述衬底基座中设有第三冷却水系统和加热器；

其特征在于，在所述衬底表面进行铝铜膜沉积过程中，所述第一冷却水系统、第二冷却水系统以及第三冷却水系统保持循环。

2.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，所述铝铜靶材中，铝的质量配比为99.5％，铜的质量配比为0.5％。

3.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，将所述衬底送入处理腔室之前，还包括：将所述衬底送入一加热腔室，对所述衬底进行加热。

4.如权利要求3所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，所述加热的温度范围200℃～350℃。

5.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，所述衬底基座表面设有数个通气孔，在所述衬底表面进行铝铜膜沉积过程中，向所述衬底背面进行氩气喷射。

6.如权利要求5所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，所述氩气喷射的气压范围大于等于6000mtor。

7.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，所述第一冷却水系统、第二冷却水系统以及第三冷却水系统的冷却水的温度范围为14℃～22℃。

8.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，所述第一冷却系统提供的冷却水的流量范围大于等于3gallon/min。

9.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，所述第二冷却系统提供的冷却水的流量范围大于等于3gallon/min。

10.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，所述第三冷却系统提供的冷却水的流量范围大于等于3gallon/min。

11.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，在所述衬底表面进行铝铜膜沉积过程中，所述腔体内的压力范围为2mtor～5mtor。

12.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，在所述衬底表面进行铝铜膜沉积过程中，利用加热器对所述衬底进行加热，所述加热器的温度设定范围为255℃～275℃。

13.如权利要求1所述的铝铜膜的物理气相沉积方法，其特征在于，在所述衬底表面进行铝铜膜沉积之后，还包括：将所述衬底送入一冷却腔室进行冷却。