[发明专利]决定方法和计算机

权利要求书

1.一种决定曝光装置中的曝光条件的决定方法，所述曝光装置包括用于对掩模照明的照明光学系统和用于将掩模的图案的图像投影到基板上的投影光学系统，所述方法包括：

第一步骤，从多个评价项目选择作为要被关注的评价项目的关注评价项目，所述多个评价项目要被用来通过与要在基板上形成的目标图案相比较而评价与曝光条件对应地在投影光学系统的像面上形成的图像；

第二步骤，从所述多个评价项目中选择与关注评价项目不同并且在曝光条件中包含的参数值改变时沿与关注评价项目的值改变的方向相同的方向改变值的评价项目作为辅助评价项目；

第三步骤，设定包含关注评价项目和辅助评价项目作为值的评价函数；

第四步骤，改变参数值以使所述评价函数的值更接近目标值，并且对于与参数值对应地在投影光学系统的像面上形成的多个图像中的每一个，计算所述评价函数的值；以及

第五步骤，决定在第四步骤中计算的所述评价函数的多个值之中与满足目标值的评价函数的值对应的参数值作为包含于曝光条件中的参数值。

2.根据权利要求1的方法，其中，在第二步骤中，从所述多个评价项目中选择这样的评价项目作为辅助评价项目：对于参数值，该评价项目的值比关注评价项目的值小。

3.根据权利要求1的方法，其中，在第二步骤中，从所述多个评价项目中选择这样的评价项目作为辅助评价项目：该评价项目的对于参数值的变化的灵敏度比关注评价项目的高。

4.根据权利要求1的方法，其中，在第二步骤中，从所述多个评价项目中选择这样的评价项目作为辅助评价项目：该评价项目的值在参数值被改变时连续地改变。

5.根据权利要求1的方法，其中，在第二步骤中，通过参照表示所述多个评价项目之间的对应关系的表，选择这样的评价项目作为辅助评价项目：当改变包含于曝光条件中的参数值时，该评价项目的值沿与关注评价项目的值改变的方向相同的方向改变。

6.根据权利要求1的方法，其中，如果在第四步骤中计算的评价函数的多个值均不满足目标值，那么选择与在第二步骤中选择的评价项目不同的评价项目作为新的辅助评价项目，并且，执行第三步骤、第四步骤和第五步骤。

7.根据权利要求1的方法，其中，如果在第四步骤中计算的评价函数的多个值中的至少一个满足目标值，那么，所述方法还包括：

第六步骤，设定仅有关注评价项目的新评价函数；

第七步骤，在将包含于曝光条件中的参数值从在第五步骤中决定的参数值改变限定的次数的同时，对于与参数值对应地在投影光学系统的像面上形成的多个图像中的每一个，计算在第六步骤中设定的新评价函数的值，以便使在第六步骤中设定的新评价函数的值更接近目标值；以及

第八步骤，从在第七步骤中计算的评价函数的多个值中，决定与满足目标值的评价函数的值对应的参数值作为包含于曝光条件中的参数值。

8.根据权利要求1的方法，其中，在第三步骤中，设定评价函数，使得关注评价项目的值更接近目标值的方向与辅助评价项目的值更接近目标值的方向匹配。

9.根据权利要求1的方法，其中，

所述关注评价项目是投影光学系统的像面上的焦点深度，并且，

所述辅助评价项目包含以下中的至少一个：目标图案的尺寸与在投影光学系统的像面上形成的掩模的图案的图像的尺寸之间的差值；和在投影光学系统的像面上形成的掩模的图案的图像的曝光裕度。

10.根据权利要求1的方法，其中，曝光条件包含以下中的至少一个：掩模的图案的形状；和要在所述照明光学系统的光瞳面上形成的光强度分布。

11.一种执行根据权利要求1的决定方法的计算机。

12.一种决定曝光装置中的曝光条件的决定方法，所述曝光装置包括用于对掩模照明的照明光学系统和用于将掩模的图案的图像投影到基板上的投影光学系统，所述方法包括：

在改变包含于曝光条件中的参数值的同时计算要被用来通过与要在基板上形成的目标图案相比较而评价在投影光学系统的像面上形成的图像的评价项目的值，并且决定与满足目标值的评价项目的值对应的参数值作为包含于曝光条件中的参数值的步骤，

其中，评价项目包含作为要被关注的评价项目的关注评价项目和辅助评价项目，所述辅助评价项目与关注评价项目不同并且在当参数值被改变时关注评价项目的值不改变的情况下改变值。