[发明专利]一种基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法及系统

权利要求书

1.一种基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，所述的方法包括：

对岩石基底和岩石样品进行检测，获取所述的岩石基底的太赫兹脉冲时域波形和所述的岩石样品的太赫兹脉冲时域波形；

对所述的岩石基底的太赫兹脉冲时域波形和所述的岩石样品的太赫兹脉冲时域波形进行处理，得到所述的岩石样品的吸收谱和折射率谱数据。

2.根据权利要求1所述的基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，对所述岩石基底的太赫兹脉冲时域波形和所述的岩石样品的太赫兹脉冲时域波形进行处理，得到所述的岩石样品的吸收谱和折射率谱数据包括：

对所述岩石基底的太赫兹脉冲时域波形和所述的岩石样品的太赫兹脉冲时域波形进行快速傅里叶变换处理，得到所述的岩石样品的折射率n(v)、消光系数k(v)和吸收系数α(v)；

在有效频率范围内建立岩石样品的吸收谱和折射率谱。

3.根据权利要求2所述的基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，其中：

α(v)=4πvk(v)c,]]>

k(v)=c2πdvln4n(v)A(1+n(v))2,]]>

其中，为岩石样品电场与岩石基底电场之间的相位差，d为岩石样品的厚度，v为辐射的频率，c为真空中的光速。

4.根据权利要求1所述的基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，所述的对岩石基底和岩石样品进行检测包括：利用透射式太赫兹时域光谱装置对岩石基底和岩石样品进行检测。

5.根据权利要求1所述的基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，所述的岩石基底为二氧化硅单晶片。

6.根据权利要求1所述的基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，所述的岩石样品的厚度为0.02至0.05毫米。

7.根据权利要求1所述的基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，所述的岩石样品在进行测定之前先进行干燥处理。

8.根据权利要求7所述的基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，所述的干燥处理为，将所述的岩石样品在干燥箱中以50摄氏度干燥48小时。

9.根据权利要求1所述的基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，所述的岩石基底和所述的岩石样品通过环氧树脂胶粘贴。

10.根据权利要求1所述的基于太赫兹时域光谱测定岩石光学参数的方法，其特征在于，所述的对岩石基底和岩石样品进行检测，获取所述的岩石基底的太赫兹脉冲时域波形和所述的岩石样品的太赫兹脉冲时域波形包括：对岩石基底和岩石样品进行多次检测，获取所述的岩石基底的太赫兹脉冲时域波形的平均值和所述的岩石样品的太赫兹脉冲时域波形的平均值。