[发明专利]化合物薄膜太阳能电池的制作方法及制作的太阳能电池无效
申请号: | 201210060125.4 | 申请日: | 2012-03-09 |
公开(公告)号: | CN103137784A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 朱容贤;赖明旺;洪东亿 | 申请(专利权)人: | 硕禾电子材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 何为;袁颖华 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 薄膜 太阳能电池 制作方法 制作 | ||
1.一种化合物薄膜太阳能电池的制作方法,该太阳能电池的制作包括双渐层结构的吸收材料层的制作,其特征在于:所述吸收材料层是在真空腔体内于500-600℃以溅镀方式配合持续通入的硒蒸气进行制作,该吸收材料层的双渐层的制作过程包括如下三阶段:
第一阶段是于正规化功率0.35W±10%时导入铟,而于正规化功率0.5W±10%导入铜镓,且该铟与铜镓的掺杂浓度比例为3.5:5;
第二阶段是于正规化功率0.1W±10%时导入铜镓,而于正规化功率0.2W±10%时导入铜,并于正规化功率0.75W±10%时导入铟,且该铜镓、铜与铟的掺杂浓度比例为1:2:7.5;以及
第三阶段是于正规化功率0.35W±10%时导入铟,而于正规化功率0.5W±10%时导入铜镓,且该铟与铜镓的掺杂浓度比例为3.5:5。
2.如权利要求1所述的化合物薄膜太阳能电池的制作方法,其特征在于:所述第一阶段占总制作过程时间的45%±20%。
3.如权利要求1所述的化合物薄膜太阳能电池的制作方法,其特征在于:所述第二阶段占总制作过程时间的50%±20%。
4.如权利要求1所述的化合物薄膜太阳能电池的制作方法,其特征在于:所述第三阶段占总制作过程时间的5%±5%。
5.一种化合物薄膜太阳能电池的制作方法,该太阳能电池的制作包括单层结构的吸收材料层的制作,其特征在于:所述吸收材料层是于真空腔体内在500-600℃以溅镀方式配合持续通入的硒蒸气进行制作,该吸收材料层的单层制作过程为单阶段制作:该阶段是于正规化功率0.35W±10%时导入铟,而于正规化功率0.5W±10%导入铜镓,且该铟与铜镓的掺杂浓度比例为3.5:5。
6.如权利要求5所述的化合物薄膜太阳能电池的制作方法,其特征在于:所述单阶段占总制作过程时间的100%。
7.一种如权利要求1或5所述的化合物薄膜太阳能电池的制作方法制作的太阳能电池,其特征在于:所述太阳能电池包含有钠玻璃基板、设于钠玻璃基板上的钼材料层、设于钼材料层上的吸收材料层、设于吸收材料层上的硫化镉材料层、设于硫化镉材料层上的氧化锌材料层、及设于氧化锌材料层上的透明导电层。
8.一种如权利要求1或5所述的化合物薄膜太阳能电池的制作方法制作的太阳能电池,其特征在于:所述太阳能电池包含有不锈钢基板、设于不锈钢基板上的铬材料层、设于铬材料层上的钼钠材料层、设于钼钠材料层上的钼材料层、设于钼材料层上的吸收材料层、设于吸收材料层上的硫化镉材料层、设于硫化镉材料层上的氧化锌材料层、及设于氧化锌材料层上的透明导电层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的