[发明专利]用于光刻操作的间隔件双重图案化

权利要求书

1.一种用于产生用于集成电路的布局文件的方法，其包括：

选择所述电路的第一及第二布局元件；

界定经重新确定大小的第一元件的外形的数据表示；及

组合所述第一元件的所述外形的所述数据表示与所述第二元件的数据表示以得出初始图案的数据表示。

2.根据权利要求1所述的方法，其中组合所述第一元件的所述外形的所述数据表示与所述第二元件的所述数据表示包括对所述第一元件的所述外形的所述数据表示与所述第二元件的所述数据表示进行逻辑“或”运算。

3.根据权利要求1所述的方法，其中界定经重新确定大小的第一元件的外形的数据表示包括重新确定所述第一布局元件的大小、选择经重新确定大小的数据元件的外形及界定所述外形的数据表示。

4.一种产生用于形成用来将图案成像到衬底上的光掩模的数据集的方法，其包括：

选择第一及第二布局元件；

重新确定所述第一布局元件的大小并界定所述经重新确定大小的第一元件的数据表示；及

组合所述经重新确定大小的第一元件的所述数据表示与所述第二元件的数据表示；及

组合所述第一元件的数据表示与所述经重新确定大小的第一元件及所述第二元件的数据表示的所述组合以得出初始图案的表示。

5.根据权利要求4所述的方法，其中组合所述第一元件的外形的所述数据表示与所述第二元件的所述数据表示包括对所述第一元件的所述外形的所述数据表示与所述第二元件的所述数据表示进行逻辑“或”运算。

6.根据权利要求4所述的方法，其中组合所述第一元件的数据表示与所述经重新确定大小的第一元件及所述第二元件的数据表示的所述组合包括对所述第一元件的数据表示与所述经重新确定大小的第一元件及所述第二元件的数据表示的所述组合进行逻辑“与非”运算。

7.根据权利要求4所述的方法，其中通过体现于计算机可用媒体上的计算机程序产品来执行所述方法。