[发明专利]一种曝光机曝光台密合度的测试方法

说明书

技术领域

    本发明涉及印刷线路板技术领域，尤其涉及PCB影像转移曝光生产领域，主要用于监测曝光台面密合度。

 

背景技术

目前PCB影像转移生产领域，曝光作业真空度管控主要分为底片真空及台面真空两种。如附图1所示，底片真空管控A与B之间或C与D之间的真空度；台面真空管控A与C之间或B与D之间的真空度。

底片真空管控主要以机台上底片真空表头监控底片真空值为主，底片吸真空后底片与玻璃间显示的牛顿环清晰度为辅来监控。台面真空管控主要以机台上台面真空表头来监控台面真空值。

    现有技术对台面真空的监控太单一、笼统，对单点或局部区域漏光监控作用微乎其微。其原因主要有如下两点：第一：作业板子尺寸不一，使曝光框架及玻璃台面的受力不均；在长期使用的情况下，会引起框架及玻璃台面的轻微变形。从而形成单点或局部区域因真空不足，造成漏光不良；第二，曝光框架及玻璃台面长期使用的情况下，会引起框架周边紧固、密封设备的磨损或松动。导致框架密合性变差，造成局部真空不足而产生漏光不良。

 

发明内容

本发明的目的是提供一种曝光机曝光台密合度的测试方法。本发明通过：a将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上；b吸1-5滴水或酒精滴于底片的四角及中间；c闭合框架并将其吸成真空；d观察水或酒精膜扩散状况，根据水或酒精膜扩散状况，这四个步骤来实现判定框架密合性是否合格，如果扩散均匀，即水或酒精膜向四周扩散且与中间的水或酒精滴为同心圆，则可判定其密合性较好；如果扩散不均匀，即水或酒精膜虽向四周扩散为圆形，但与中间的水或酒精滴不是同心圆，则可判定其密合性不合格。使用该方法后可以克服现有技术对台面真空的监控太单一、笼统，对单点或局部区域漏光监控效果微乎其微的缺点，实现对曝光机曝光台密合性的监控，以便及时点检维护，进而提前预防漏光不良产生。

 

附图说明

图1当前曝光作业真空度管控示意图

图2具体实施例1中滴水示意图

图3具体实施例2中滴水示意图

图4具体实施例3中滴水示意图

图5具体实施例1的试验结果

图6具体实施例2的试验结果

图7具体实施例3的试验结果

具体实施方式

具体实施例1

将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上，吸1滴无色的水滴于上底片的四角及中间，如附图2所示，其中四角滴液体的位置距离底片边缘为4厘米，框架闭合并将其吸成真空，观察水膜扩散状况，其测试结果如附图5所示，由此可以判断曝光台的紧密度较好。

具体实施例2

将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上，吸1滴红色的酒精于下底片的四角及中间，如附图3所示，其中四角滴酒精的位置距离底片边缘为5厘米，框架闭合并将其吸成真空，观察酒精膜扩散状况，其测试结果如附图6所示，由此可以判断曝光台的紧密度不好。

具体实施例3

将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上，吸5滴绿色的水滴于上底片的四角及中间，如附图4所示，其中四角滴水的位置距离底片边缘为10厘米，框架闭合并将其吸成真空，观察水膜扩散状况，其测试结果如附图7所示，由此可以判断曝光台的紧密度较好。