[发明专利]一种光刻机高模态轻质量承片台有效

专利信息
申请号: 201210055795.7 申请日: 2012-03-05
公开(公告)号: CN103293866A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 吴飞;郭琳;王保亮;马宁;袁志扬;刘育;韩良华 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 机高模态轻 质量 承片台
【权利要求书】:

1.一种光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,包括:

承片台顶部结构模块和承片台底部封板,所述承片台顶部结构模块和承片台底部封板粘结为一体,形成上下两层的夹心板结构;

所述承片台顶部结构模块具有平面矢量电机安装腔、垂向驱动机构安装腔、差分传感器安装腔和减重孔;

所述承片台底部封板具有开孔以适应承片台同微动台的装配。

2.根据权利要求1所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述减重孔为阵列减重圆孔、正六边形孔或三角形孔。

3.根据权利要求2所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述阵列减重圆孔的圆孔位置采用等圆心距错位布局,横向两列孔圆心距偏移相等距离,且布局中任意两相邻孔圆心距相等,任意三个两两相邻圆孔的圆心距连线为等边三角形。

4.根据权利要求2所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述正六边形孔布局中任意两相邻正六边形边间距相等,分布均匀。

5.根据权利要求2所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述三角形孔布局中任意两相邻等边三角形间距相等,分布均匀。

6.根据权利要求2所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述布置开孔的数量控制在40~300个之间,最小边距离控制在2~4mm,占空比的数值在70%~95%之间。

7.根据权利要求1所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述减重孔通过模具制造实现,所述模具分上模及下模两部分,上模为承料腔,下模通过预埋与减重孔设计布局相同的销孔,将上下模贴合后注料并压铸成型,在承片台处于可加工状态下,通过机加工对其外形进行修整,最后烧结完成多孔承片台的制造。

8.根据权利要求1所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述承片台顶部结构模块还包括拓扑加强筋主筋和拓扑加强筋副筋,所述主筋指由搭结中心平面矢量电机安装腔到承片台四周的支撑加强筋,所述副筋指由搭结内部主筋之间的支撑加强筋。

9.根据权利要求8所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述主筋的壁厚为8~30mm,所述副筋的壁厚为3~10mm。

10.根据权利要求1所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述承片台采用微晶玻璃、碳纤维或其他致密复合材料制造。

11.根据权利要求1所述的光刻机高模态轻质量承片台,其特征在于,所述承片台采用泡沫陶瓷、蜂窝陶瓷或其他疏松多孔的材料制造。

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