[发明专利]圆片清洗方法与圆片清洗装置无效

专利信息
申请号: 201210054552.1 申请日: 2012-03-05
公开(公告)号: CN103286086A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 闵渊文 申请(专利权)人: 无锡华润华晶微电子有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 臧霁晨;王忠忠
地址: 214028 江苏省无锡市国*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 清洗 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种圆片清洗方法,其特征在于,包括下述步骤:

将圆片放置在可喷水的水悬浮平台上,以利用所述喷水水流保持圆片悬浮的悬浮处理步骤;

将处理液喷射到圆片并进行预定时间处理的喷射步骤;

在所述水悬浮平台上加盖连接了冲水管的冲水罩,利用所述冲水管的可控水流对圆片进行冲水的冲水步骤。

2.如权利要求1所述的圆片的清洗方法,其特征在于,

在所述悬浮处理步骤中,所述圆片背面向上、正面朝下悬浮。

3.如权利要求2所述的圆片的清洗方法,其特征在于,

在所述冲水步骤后还包括:

将圆片从所述水悬浮平台转移到溢流槽并且进行溢流冲水的溢流冲水步骤。

4.如权利要求2所述的圆片的清洗方法,其特征在于,

在所述喷射步骤中,利用装有处理液的洗瓶对所述圆片喷射处理液。

5.如权利要求2~4任意一项所述的圆片的清洗方法,其特征在于,

在所述冲水步骤包括:

检测冲水罩是否盖上的检测步骤;

在所述检测步骤中检测到冲水罩已经盖上的情况下,利用来自所述冲水管的可控的水流去除所述处理液的去除步骤。

6.如权利要求5所述的圆片的清洗方法,其特征在于,

在所述冲水步骤中进一步包括:

将所述喷射步中产生的毒害气体排出并进行无毒化处理的气体处理步骤。

7.如权利要求1所述的圆片的清洗方法,其特征在于,

所述处理液包含有无水乙醇和氢氟酸。

8.一种圆片清洗装置,其特征在于,

包括圆形槽和设置在所述圆形槽中央的水悬浮平台,

所述水悬浮平台为中间镂空的圆环形平台,

在所述水悬浮平台上具备用于喷水的多个喷水孔和用于插入定位杆的多个定位孔。

9.如权利要求8所述的圆片清洗装置,其特征在于,还具备:

能够将所述圆形槽和所述水悬浮平台盖住以使得在封闭空间对圆片进行冲水清洗的冲水罩;

检测所述冲水罩是否关闭的传感器;

用于对所述封闭空间的气体进行排气的排气管;以及

用于对圆片进行溢流冲水的溢流槽。

10.如权利要求8或9所述的圆片清洗装置,其特征在于,

在所述圆环形平台的内圈环形地设置所述喷水孔,

所述水悬浮平台用聚四氟乙烯制成。

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