[发明专利]一种抗辐射涂布膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210049298.6 申请日: 2012-02-29
公开(公告)号: CN102675671A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 金国华 申请(专利权)人: 苏州金海薄膜科技发展有限公司
主分类号: C08J7/04 分类号: C08J7/04;C09J7/02;C09J133/00;C09J171/00;C09J167/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 215400 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 辐射 涂布膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种抗辐射涂布膜的制备方法,其特征在于:该制作方法的具体步骤如下:将透明薄膜基片进行表面处理,在处理面上涂布复合胶层;向平均粒径为15nm~300nm的混合纳米粉体中加入分散剂经砂磨机砂磨分散成悬浮液;将所述的悬浮液涂布在透明薄膜基片的复合胶层面上,最后固化成膜即得抗辐射涂布膜。

2.根据权利要求1所述的一种抗辐射涂布膜的制备方法,其特征在于:所述的固化成膜步骤为:将涂有所述混合纳米粉体的透明薄膜基片放在60℃~120℃温度下预热1~2min后放置在紫外线固化装置下固化1~30s。

3.根据权利要求1所述的一种抗辐射涂布膜的制备方法,其特征在于:所述的固化成膜步骤为:将涂有所述混合纳米粉体的透明薄膜基片放置在温度为60℃~150℃的烘箱中1~2min。

4.根据权利要求1至3任一项所述的一种抗辐射涂布膜的制备方法,其特征在于:所述的混合纳米粉体为纳米金属、纳米氧化物、纳米氮化物、纳米碳化物、纳米氟化物、纳米硫化物、纳米锑化物、纳米晒化物、纳米碲化物等纳米材料中的任意一种或任意两种以上无机化合物的组合。

5.根据权利要求4所述的一种抗辐射涂布膜的制备方法,其特征在于:所述的将透明薄膜基片进行表面处理包括除尘、除静电及电晕处理。

6.根据权利要求4所述的一种抗辐射涂布膜的制备方法,其特征在于:所述的复合胶层为热固化树脂。

7.根据权利要求6所述的一种抗辐射涂布膜的制备方法,其特征在于:所述的热固化树脂为丙烯酸热固化树脂、羟基丙烯酸树脂、聚醇树脂、脂肪族饱和聚酯树脂中的一种。

8.根据权利要求1所述的一种抗辐射涂布膜的制备方法,其特征在于:所述的悬浮液涂布方法为网纹辊涂布法。

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