[发明专利]基于负微分电阻特性的混合SETCMOS D触发器有效
| 申请号: | 201210048026.4 | 申请日: | 2012-02-29 | 
| 公开(公告)号: | CN102594298A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 | 
| 发明(设计)人: | 魏榕山;陈寿昌;陈锦锋;何明华 | 申请(专利权)人: | 福州大学 | 
| 主分类号: | H03K3/012 | 分类号: | H03K3/012;H03K3/02 | 
| 代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 | 
| 地址: | 350002 福建省福州市铜*** | 国省代码: | 福建;35 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 微分 电阻 特性 混合 setcmos 触发器 | ||
1.一种基于负微分电阻特性的混合SETCMOS D触发器,其特征在于,包括:
一第一锁存器,其包括一NMOS传输管、具有NDR特性的混合SET/CMOS电路NDR1以及以SET/CMOS为基础的负微分电阻电路SET-MOS1,所述的NDR1和SET-MOS1串联,所述NMOS管的漏极连接至该NDR1和SET-MOS1之间;
一第二锁存器,其包括一PMOS传输管、具有NDR特性的混合SET/CMOS电路NDR2以及以SET/CMOS为基础的负微分电阻电路SET-MOS2,所述的NDR2和SET-MOS2串联,所述PMOS管的漏极连接至该NDR2和SET-MOS2之间;以及
一缓冲器,所述的第一锁存器经该缓冲器与所述第二锁存器连接。
2.根据权利要求1所述的基于负微分电阻特性的混合SETCMOS D触发器,其特征在于:所述SET-MOS1和SET-MOS2包括一单电子晶体管SET及一NMOS管,所述的NMOS管的源极与单电子晶体管SET的漏极连接,所述NMOS管的漏极与所述单电子晶体管SET的栅极连接,该单电子晶体管SET的漏源两端电压Vds必须满足|Vds|<e/CΣ,其中,CΣ为总电容,e为元电荷。
3.根据权利要求1所述的基于负微分电阻特性的混合SETCMOS D触发器,其特征在于:所述NDR1和NDR2包括一单电子晶体管SET及一PMOS管,所述的PMOS管的源极与单电子晶体管SET的源极相连,单电子晶体管SET的栅极与PMOS管的漏极相连,该单电子晶体管SET的漏源两端电压Vds必须满足|Vds|<e/CΣ,其中,CΣ为总电容,e为元电荷。
4.根据权利要求2或3所述的基于负微分电阻特性的混合SETCMOS D触发器,其特征在于:所述单电子晶体管SET由两个隧穿结通过库仑岛串联而成,外加的偏置电压由栅极电容耦合到库仑岛上,以控制器件的隧穿电流,该单电子晶体管SET的主要参数包括:隧穿结电容Cd和Cs,隧穿结电阻Rd和Rs,栅极电容Cg和Cctrl;其中,隧穿结的充电能必须大于环境温度引起的热涨落,即Ec=e2/2CΣ>>kBT,式中:Ec为隧穿结的充电能;CΣ=Cg+Cctrl+Cd+Cs为单电子晶体管的总电容;e为元电荷;kB为玻尔兹曼常数;T为环境温度;隧穿结的电阻必须大于量子电阻,即Rd,Rs>>RQ=h/e2≈25.8 KΩ,式中:RQ为量子电阻;h为普朗克常量。
5.根据权利要求4所述的基于负微分电阻特性的混合SETCMOS D触发器,其特征在于:所述NMOS传输管的参数满足:沟道宽度Wn为65nm,沟道长度Ln为100 nm,阈值电压Vth为0.423 V;所述PMOS传输管的参数满足:沟道宽度Wn为65nm,沟道长度Ln为100 nm,阈值电压Vth为-0.365V;所述PMOS管的参数满足:沟道宽度Wp为100 nm,沟道长度Lp为65 nm,栅极电压Vpg为0.3 V,阈值电压Vth为-0.365 V;所述NMOS管的参数满足:沟道宽度Wn为100nm,沟道长度Ln为65nm,阈值电压Vth为0.423 V,栅极电压Vn为0.26V;所述单电子晶体管SET的参数满足:隧穿结电容Cs、Cd为0.15aF,隧穿结电阻Rs、Rd为1 MΩ,背栅电压Vctrl1为-0.1V,背栅电压Vctrl2为0.7V,背栅电容Cctrl为0.1aF,栅极电容Cg为0.2aF。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州大学,未经福州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210048026.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:高压容性设备末屏接地装置
- 下一篇:一种端子插入机构





