[发明专利]一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪有效
申请号: | 201210045815.2 | 申请日: | 2012-02-27 |
公开(公告)号: | CN102589702A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 赵光兴;赵远 | 申请(专利权)人: | 安徽工业大学 |
主分类号: | G01J3/45 | 分类号: | G01J3/45;G01J3/28 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 蒋海军 |
地址: | 243002 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 菲涅尔 双面 干涉 成像 光谱仪 | ||
1.一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪,其特征在于,它包括光学结构、二维探测器(4)和数据采集系统(5),所述的光学结构包括前置望远镜(1)、入射狭缝(2)和菲涅尔双面镜(3);
所述菲涅尔双面镜(3)包括平面反射镜M1和平面反射镜M2;
在前置望远镜(1)至二维探测器(4)的光路上,依次排列安装有前置望远镜(1)、入射狭缝(2)、菲涅尔双面镜(3)和二维探测器(4);所述入射狭缝(2)位于前置望远镜(1)的焦平面上;垂直于入射狭缝(2)方向的从入射狭缝(2)出射的光束全部落在菲涅尔双面镜(3)上,菲涅尔双面镜(3)的两个平面反射镜的交接线位于所述垂直于入射狭缝(2)方向的从入射狭缝(2)出射的光束的正中间;
二维探测器(4)与入射狭缝(2)的方向平行、并与两路反射光相干区域内零光程差所在的平面垂直,且所述二维探测器(4)只对两路反射光相干区域内零光程差所在平面的上方或下方的干涉图进行检测;
所述二维探测器(4)与数据采集系统(5)连接。
2.根据权利要求1所述的一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪,其特征在于,入射狭缝(2)处S点经菲涅尔双面镜(3)所成的虚像为S1点和S2点,所述二维探测器(4)所在位置与S1点和S2点连线的中垂线垂直。
3.根据权利要求1或2所述的一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪,其特征在于,所述平面反射镜M1和平面反射镜M2之间的夹角θ的范围为0.1°<θ≤5°。
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