[发明专利]一种基于标准CMOS工艺的叠层差分光电探测器有效

专利信息
申请号: 201210045150.5 申请日: 2012-02-24
公开(公告)号: CN102593132A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 毛陆虹;康玉琢;肖新东;张世林;谢生 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 程毓英
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 标准 cmos 工艺 叠层差分 光电 探测器
【权利要求书】:

1.一种基于标准CMOS工艺叠层差分双光电探测器,包括:呈垂直分布的MSM型光电探测器、双光电二极管型光电探测器以及位于两者之间的隔离层,其中,双光电二极管型光电探测器制作在硅衬底PSUB上,使用P+/N阱结作为工作二极管,N阱/Psub结作为屏蔽二极管,位于下方,其阴极P+与阳极N+相间分布,每两个阳极N+间的阴极P+数量为3~4个;MSM型光电探测器制作在低掺杂多晶硅层POLY1上,位于上方。

2.根据权利要求1所述的基于标准CMOS工艺叠层差分双光电探测器,其特征在于,其中的隔离层由两层SiO2夹一层高掺杂多晶硅层POLY2构成,高掺杂多晶硅层POLY2接地。

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