[发明专利]一种在铝合金表面沉积ZrN薄膜工艺的研究无效
申请号: | 201210044315.7 | 申请日: | 2012-02-27 |
公开(公告)号: | CN102899611A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 王会强;孙维连;邢艳秋;李新领;孙铂;安广;李颖;程越 | 申请(专利权)人: | 河北农业大学 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 071001 河北省保定*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铝合金 表面 沉积 zrn 薄膜 工艺 研究 | ||
1.一种利用中频反应磁控溅射在铝合金表面沉积耐腐蚀、耐磨损和颜色亮丽的ZrN薄膜的方法,其特征在于按如下的步骤进行:
(1)采用SP-0707AS中频反应磁控溅射镀膜机,中频功率为5KW,本底真空度为6.0×10-3Pa,靶材为270×70×5 mm的长方形对称Zr靶,工作气体Ar气和反应气体N2气的纯度均为99.99%,溅射气压为3.0×10-1Pa,偏压为150V,占空比为80%;
(2)基体采用铝合金镜面板,试样制成40×60mm,15×30mm两种规格;铝合金基体使用前用超声波清洗,清洗剂中加入金属清洗剂,温度控制在50℃,清洗10 min后用去离子水清洗10 min,再用丙酮擦拭,最后用酒精漂洗吹干;
(3)将金属铝合金镜面板挂到真空炉悬架上,靶基距控制在120mm,关闭真空室,抽真空到6.0×10-3Pa;到达本底真空度后,通入Ar气辉光清洗,调压至3.0×10-3Pa;主轰击,加入N2气,调压至3.0×10-1Pa,进行沉积;
(4)氮气流量为15sccm,镀膜温度为70 ℃,镀膜时间为30 min,镀膜厚度为70 nm时,在铝合金表面沉积出耐腐蚀、耐磨损、仿金色的ZrN薄膜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北农业大学,未经河北农业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210044315.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:滚筒式餐饮废水自动除渣机
- 下一篇:一种胶体挤压过滤出口的易清理机构
- 同类专利
- 专利分类