[发明专利]碳纳米管微尖结构及其制备方法

权利要求书

1.一种碳纳米管微尖结构的制备方法，其包括：

提供一碳纳米管膜结构及一绝缘基底，该绝缘基底具有一表面，该表面具有至少一带状凹部；

将该碳纳米管膜结构覆盖于该绝缘基底的表面，并使部分该碳纳米管膜结构覆盖于所述带状凹部，并在该带状凹部处悬空设置；

激光刻蚀该碳纳米管膜结构的悬空设置的部分，在该碳纳米管膜结构上形成一第一镂空图案，并形成与该第一镂空图案对应的图案化碳纳米管膜结构，该图案化碳纳米管膜结构包括两个条形臂，该两个条形臂在端部连接形成一尖端，该尖端在该带状凹部处悬空设置。

2.如权利要求1所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，该碳纳米管膜结构的制备方法包括以下步骤：

提供多个从碳纳米管阵列拉取获得的碳纳米管膜；

将该多个碳纳米管膜沿不同方向层叠覆盖一框架；以及

采用有机溶剂处理框架上的碳纳米管膜。

3.如权利要求1所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，将该碳纳米管膜结构覆盖于该绝缘基底后，进一步包括一通过有机溶剂处理该碳纳米管膜结构的步骤。

4.如权利要求1所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，在形成所述尖端后，进一步包括一使该尖端中的碳纳米管露头的步骤。

5.如权利要求4所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，该露头的步骤为采用粘性工具接触该尖端，粘结部分碳纳米管，移动该粘性工具将该碳纳米管向所述尖端外带出。

6.如权利要求1所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，在形成所述尖端后，进一步包括一激光刻蚀该图案化碳纳米管膜结构，以形成一凹槽的步骤，该凹槽的深度方向平行于该绝缘基底的所述表面，并从远离该尖端的方向向该尖端延伸。

7.如权利要求1所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，进一步包括对应所述两个条形臂，图案化处理该碳纳米管膜结构覆盖于该绝缘基底表面的部分，以形成两个连接部的步骤，该两个连接部分别与所述两个条形臂相连接。

8.如权利要求7所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，该形成两个连接部的步骤包括：

将所述碳纳米管膜结构覆盖于所述绝缘基底之前预先激光刻蚀该碳纳米管膜结构，从而在该碳纳米管膜结构表面形成一第三镂空图案；

对应该碳纳米管膜结构的第三镂空图案，在该绝缘基底的所述表面形成一辅助刻蚀槽体图案，该辅助刻蚀槽体图案与该第三镂空图案及该带状凹部相连，定义出两个连接部，并将该碳纳米管膜结构与所述具有两个连接部的图案化碳纳米管膜结构完全分隔；

将所述碳纳米管膜结构覆盖于所述绝缘基底之后刻蚀该辅助刻蚀槽体图案上的碳纳米管膜结构；以及

去除所述绝缘基底表面的该碳纳米管膜结构。

9.如权利要求8所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，该辅助刻蚀槽体图案为线状槽，该线状槽与该带状凹部平行且间隔设置，该第三镂空图案包括至少一组条带状镂空区域，该条带状镂空区域包括三个间隔的镂空条带，该镂空条带两端的位置分别与该线状槽及该带状凹部的位置接触，从而定义出所述连接部。

10.如权利要求8所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，该碳纳米管膜结构在该辅助刻蚀槽体图案上方悬空设置。

11.如权利要求7所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，该形成两个连接部的步骤包括：将碳纳米管膜结构覆盖于所述绝缘基底之前预先激光刻蚀该碳纳米管膜结构将要覆盖于该绝缘基底的表面的部分，形成一第二镂空图案，从而在该碳纳米管膜结构上定义出该两个连接部，该图案化碳纳米管膜结构与该碳纳米管膜结构的其他区域通过所述第一镂空图案和第二镂空图案分离。

12.如权利要求7所述的碳纳米管微尖结构的制备方法，其特征在于，该形成两个连接部的步骤包括：在将碳纳米管膜结构覆盖于所述绝缘基底之前预先在该绝缘基底的所述表面形成一连接部刻蚀槽体图案，并在将碳纳米管膜结构覆盖于所述绝缘基底之后刻蚀该连接部刻蚀槽体图案上的碳纳米管膜结构，将具有两个连接部的图案化碳纳米管膜结构与该碳纳米管膜结构的其他部分分离。