[发明专利]一种分层立体温室无效

专利信息
申请号: 201210042047.5 申请日: 2012-02-22
公开(公告)号: CN102523987A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 王京生 申请(专利权)人: 王京生
主分类号: A01G9/14 分类号: A01G9/14
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 韩国胜;王莹
地址: 100073 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 分层 立体 温室
【说明书】:

技术领域

发明属于温室技术领域,特别是涉及一种分层立体温室。

背景技术

日光温室大棚是我国北方地区独有的一种温室类型,主要由围护墙体、后屋面和前屋面三部分组成,简称日光温室的“三要素”,其中前屋面是温室的全部采光面,白天采光时段前屋面只覆盖塑料膜采光,当室外光照减弱时,及时用活动保温被覆盖塑料膜,以加强温室的保温。即使在最寒冷的季节,也只依靠太阳光来维持室内一定的温度水平,以满足蔬菜作物生长的需要。

常规日光温室土地利用率低,只利用一层土壤种植,温室阴影不能利用或极少利用,受阴影部分影响,温室行间距在十米或十米以上导致大量土地浪费,温室内立体种植受制于光照影响,有效种植面积较小;连续作业效率低,由于温室大棚自身条件的限制,其内的土壤肥力如果得不到及时有效的补充,连续作业时,蔬菜的产量和质量都会降低,并且容易随着土壤传播病虫害。为了提高蔬菜的产量和品质,目前的有机蔬菜栽培方法用水、用肥量比较大,不仅污染周边环境,更重要的是提高了蔬菜成本。不同地域与区域的土地,不一定能保证提供蔬菜生长所需要的营养成分。

而且,常规温室种植要求条件好的耕地或基本农田,但这类耕地或农田本身就是极为紧张的稀缺资源,建造成方连片的大规模种植基地面临选址困难问题。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是:现有的温室大棚受阴影部分影响,温室行间距在十米或以上,导致大量土地浪费,温室内立体种植受制于光照影响,有效种植面积较小。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题,本发明提供一种分层立体温室。

其中,所述温室包括一个或多个温室本体,所述温室本体包括东、西、北三面墙和透光膜,所述透光膜覆盖在三面墙之上,在温室本体北面墙的北侧设有第一密闭空间,在第一密闭空间位于地面之上设有棚架,在所述棚架上进行有土种植或无土种植,在温室本体的三面墙之间的地面之下设有一个或多个用于种植喜阴植物或菌类的第二密闭空间。

优选地,所述棚架的顶部设有防虫网、网棚温室、温室网棚或者塑料大棚。

优选地,所述温室本体与相邻的温室本体的北面墙之间的距离D为透光膜离地高度H的1.5~1.8倍。

优选地,所述棚架的长度1和高度h满足如下关系:1≤Dh/H。

优选地,所述第一密闭空间位于地面之下,在所述第一密闭空间内进行菌类种植。

优选地,所述第一密闭空间的底面和顶面的距离大于2米。

优选地,所述透光膜为塑料膜或者玻璃。

优选地,所述温室本体内进行无土种植。

(三)有益效果

上述技术方案具有如下优点:本发明通过在温室大棚地面之下和阴棚内分别设有密闭空间,在该密闭空间内进行喜阴植物或菌类的种植,从而扩大了使用面积,并且不会阻挡相邻温室大棚的阳光。而且,本发明通过在该密闭空间位于地面之上部分设置有进行有土种植或无土种植的棚架,解决了温室阴棚部分因为光照较少无法种植和利用的问题,增加了同等土地使用面积的1~3倍。

附图说明

图1是本发明的一种实施例的结构示意图。

其中,1:透光膜;2:北面墙;3:第二密闭空间;4:第一密闭空间;5:棚架;6:顶棚。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。

如图1所示,为本发明的一种实施例的结构示意图,该温室包括一个或多个温室本体,所述温室本体包括东、西、北三面墙和透光膜1,所述透光膜1覆盖在三面墙之上,在温室本体北面墙2的北侧设有第一密闭空间4,第一密闭空间4位于阳光较少的北面墙的北侧,又称之为温室阴棚。在第一密闭空间4位于地面之上设有棚架5,在所述棚架5上进行有土种植或无土种植,在温室本体的三面墙之间的地面之下设有一个或多个用于种植喜阴植物或菌类的第二密闭空间3。图中的A处为温室本体的前坡面,B处为温室本体的北面墙,C处为第一密闭空间的最北面,C处和温室阴棚的最北面还设有过道。本发明通过在温室大棚地面之下和阴棚内分别设有密闭空间,在该密闭空间内进行喜阴植物或菌类的种植,从而扩大了使用面积,并且不会阻挡相邻温室大棚的阳光。而且,本发明通过在该密闭空间位于地面之上部分设置有进行有土种植或无土种植的棚架,解决了温室阴棚部分因为光照较少无法种植和利用的问题,增加了同等土地使用面积的1~3倍。

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