[发明专利]一种不锈钢储液罐

说明书

技术领域

本发明涉及储液罐领域，更具体的说，涉及一种方便清洁的不锈钢储液罐。

背景技术

在现在的光纤及半导体生产中，经常会用到高纯特种气体，这些气体通常具有腐蚀性、毒性或爆炸性，并且这些气体在常温常压下是液体形态，在将这类液体原料输送至反应气室时，需要用到一种储液罐来容纳。在生产时，储液罐内液体原料需转化为气态，并通过管道阀门输送至反应室，出于工艺需要及工作安全的考虑，储液罐通常情况下会尽可能地靠近反应室。并且在工作过程中，还需要有外部补料功能，即将液体原料由位于较远位置的大罐或槽车内连续或间断的输送至该储液罐内。

请参考附图1，在现有技术的储液罐中，将储液罐内的液体原料汽化的方法一般有三种，具体如下：其一是将储液罐作为鼓泡容器使用，使储液罐保持一定的温度，通过浸入液体原料底部的长管道进出口3′通入经精确控制计量的工艺气体或惰性气体，使其形成载气气泡，然后通过短管道进出口4′输送至反应室；其二是将储液罐作为蒸发器使用，将液体原料通过直接蒸发的方式转化为气态，即将储液罐加热至液体原料的沸点之上的某一个温度，蒸发后的气体在储液罐上部空间聚集一定的饱和蒸汽，经精确控制计量后将其输送至反应室；其三是将储液罐作为液体储液罐使用，将其保持在一个较低的温度，在储液罐短管道进出口4′通入恒压的工艺气体或惰性气体，将液体原料通过沉浸在液体原料底部的长管道进出口3′推压出储液罐，将液体原料经精确控制计量后输送至闪蒸器，然后在高温下直接转化为气态，最后输送至反应室。

上述三种汽化方法代表了储液罐三种不同使用方法，虽然储液罐的内部结构也会有稍有不同，但无论哪种汽化方法，在长时间使用、多次充灌液体原料并汽化后，液体原料受热分解，液体原料与工艺气体接触发生微腐蚀等反应而形成的杂质，对储液罐的内壁，尤其是储液罐顶部区域13′造成严重的污染，并且也会因液体原料蒸发提纯留下的残渣，对储液罐底部区域14′造成污染，这些污染都会对后续产品质量造成比较严重的影响。这就要求必须定期对储液罐进行清洁，去除附着在储液罐内壁的污染物，以持续保障产品的高质量生产。

在实际生产中，为了满足工艺需求，在储液罐主体1′上除具备最基本的介质进入口2′、长管道进出口3′、短管道进出口4′和排渣泄放管道5′等进出管道外，还要设置液位传感器保护管6′和液体温度传感器保护管10′和蒸汽温度传感器保护管11′，来记录相关的气相、液相的温度计量、气相压力计量以及液相液位计量等参数。

在现有的储液罐中，一般是在顶部开敞口或开清洁口，开口通过上法兰7′和下法兰9′对接，并且两个法兰中间通过O型密封圈8′来密封。鉴于上述气体的高危险性，就要求储液罐必须有非常高的密封效果，所以如果在顶部开敞口，则需要O型密封圈过大，使密封面太广，密封效果就会很差，即当储液罐内工作压力稍高时，就容易发生泄漏，所以不能满足生产需要；若储液罐顶部开较小的清洁口，则受清洁空间的位置限制和管道的复杂布置，而且根本无法看到储液罐顶部区域13′，所以在擦拭起来只能进行盲擦，凭着感觉进行清洁工作，就势必无法对储液罐顶部区域13′进行彻底有效地清洁。

因此，如何设计一种储液罐，以实现很方便地清洁储液罐顶部区域的发生的微反应污染物，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种不锈钢储液罐，以克服现有技术中不锈钢储液罐在清洁储液罐顶部区域的微反应污染物非常困难的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种不锈钢储液罐，用于光纤及半导体生产工艺，包括：

开设圆形开口于底部的主体；

对所述主体的圆形开口进行密封的密封装置；

分布在所述主体上的管道系统。

优选的，在上述不锈钢储液罐中，所述密封装置包括：

焊接于所述主体的圆形开口处的上法兰；

通过螺杆和螺母与所述上法兰相连接的下法兰，所述下法兰内开设有凹槽；

设置于所述下法兰的凹槽内，并和上法兰接触的密封圈。

优选的，在上述不锈钢储液罐中，所述密封圈为O型密封圈、C型密封圈或者E型密封圈。

优选的，在上述不锈钢储液罐中，所述管道系统包括：

设置于所述下法兰的外侧面的排渣泄放管道；

设置于所述下法兰的外侧面或者主体的顶端的介质进入口；

设置于所述下法兰的内侧面的液位传感器保护管；

设置于所述主体的顶端的长管道进出口；

设置于所述主体的顶端的短管道进出口。