[发明专利]由多种油墨形成光电传导器件的工艺无效
申请号: | 201210040514.0 | 申请日: | 2008-12-05 |
公开(公告)号: | CN102569526A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | M·J·汉姆普登-史密斯;M·H·考沃尔斯基 | 申请(专利权)人: | 卡伯特公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多种 油墨 形成 光电 传导 器件 工艺 | ||
1.一种形成光电传导器件的方法,该方法包括:
提供基底,该基底包括布置在硅层上的钝化层;
将包括盐的表面改性材料沉积到钝化层的至少一部分上;
将包括金属纳米颗粒的组合物沉积到基底的至少一部分上,其中所述盐使金属纳米颗粒絮凝;和
加热组合物以使得该组合物形成与硅层电接触的光电传导器件的至少一部分,其中组合物或表面改性材料中的至少一种蚀刻钝化层的区域。
2.权利要求1的方法,其中将该组合物沉积在表面改性材料的至少一部分上。
3.权利要求1的方法,其中金属纳米颗粒具有10纳米到300纳米的体积平均粒径。
4.权利要求1的方法,其中该组合物还包含金属前体。
5.权利要求1的方法,其中金属纳米颗粒具有10纳米到100纳米的体积平均粒径。
6.权利要求1的方法,其中表面改性材料包含多种盐。
7.权利要求1的方法,其中该盐包含含有氟化物的有机盐。
8.权利要求1的方法,其中该盐包含阳离子聚合物。
9.权利要求1的方法,其中该盐蚀刻钝化层。
10.权利要求1的方法,其中该盐包含磷酸盐、硝酸盐、硫酸盐或羧酸盐。
11.权利要求1的方法,其中表面改性材料蚀刻钝化层。
12.权利要求1的方法,其中该组合物蚀刻钝化层。
13.权利要求1的方法,其中表面改性材料抑制组合物的扩散。
14.权利要求1的方法,其中加热引起组合物或表面改性材料中的至少一种蚀刻钝化层上的区域。
15.权利要求1的方法,其中金属选自银、铜、金、钯、铂、镍、钴、锌、钼、钨、钌、钛及其合金。
16.权利要求1的方法,其中金属纳米颗粒包含其上的连续的或非连续的覆盖物或涂层。
17.权利要求16的方法,其中覆盖物或涂层包括覆盖物或涂层。
18.权利要求16的方法,其中覆盖物或涂层包括聚合物。
19.权利要求16的方法,其中覆盖物或涂层包括本征传导性的聚合物、磺化的全氟代烃聚合物、聚苯乙烯、聚苯乙烯/甲基丙烯酸酯、双(2-乙基己基)磺基琥珀酸钠、四正辛基溴化铵、或烷烃硫醇盐。
20.权利要求16的方法,其中覆盖物或涂层包括PVP。
21.权利要求16的方法,其中覆盖物或涂层包括陶瓷材料。
22.权利要求21的方法,其中陶瓷材料包括多种金属氧化物的混合物。
23.权利要求21的方法,其中陶瓷材料包含硅、锌、锆、铝、钛、钌、锡、铈、铅、锶、钠、钙、铋、硼、锂或磷中的至少一种的氧化物。
24.权利要求21的方法,其中金属包含银,且陶瓷材料包含玻璃。
25.权利要求1的方法,其中表面改性材料还包含陶瓷颗粒。
26.权利要求25的方法,其中陶瓷颗粒包含多种金属氧化物的混合物。
27.权利要求25的方法,其中陶瓷颗粒包含硅、锌、锆、铝、钛、钌、锡、铈、铅、锶、钠、钙、铋、硼、锂或磷中的至少一种的氧化物。
28.权利要求1的方法,其中该组合物还包含陶瓷颗粒。
29.权利要求28的方法,其中陶瓷颗粒包含多种金属氧化物的混合物。
30.权利要求28的方法,其中陶瓷颗粒包含硅、锌、锆、铝、钛、钌、锡、铈、铅、锶、钠、钙、铋、硼、锂或磷中的至少一种的氧化物。
31.权利要求1的方法,其中表面改性材料蚀刻钝化层以形成蚀刻区域,且其中将该组合物沉积在蚀刻区域上。
32.权利要求1的方法,还包括:
在对于蚀刻钝化层有效的条件下加热表面改性材料。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的