[发明专利]具有光亮岩层图案的被覆件及其制造方法在审
申请号: | 201210031108.8 | 申请日: | 2012-02-13 |
公开(公告)号: | CN103241055A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 曹达华;刘旭 | 申请(专利权)人: | 深圳富泰宏精密工业有限公司 |
主分类号: | B44C5/04 | 分类号: | B44C5/04;B32B9/04 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 光亮 岩层 图案 被覆 及其 制造 方法 | ||
1.一种具有光亮岩层图案的被覆件,包括基体,其特征在于:所述被覆件还包括依次形成于该基体上的颜色层及透明层,该颜色层形成有颜色层砂面区及颜色层镜面区,该颜色层镜面区构成岩层的裂纹图案;该透明层形成有透明层砂面区及透明层镜面区,该透明层砂面区在该颜色层上的垂直投影与所述颜色层砂面区相重叠,该透明层镜面区在该颜色层上的垂直投影与所述颜色层镜面区相重叠。
2.如权利要求1所述具有光亮岩层图案的被覆件,其特征在于:该透明层砂面区的L*值与透明层镜面区的L*值的差值为3~8。
3.如权利要求1所述具有光亮岩层图案的被覆件,其特征在于:该透明层的透明度为30~80%。
4.如权利要求1所述具有光亮岩层图案的被覆件,其特征在于:该颜色层为碳化铬层。
5.如权利要求4所述具有光亮岩层图案的被覆件,其特征在于:该透明层砂面区呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为40至45,a*坐标为0至3,b*坐标为0至3,呈现出灰黑色;该透明层镜面区呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为36至40,a*坐标为0至2,b*坐标为0至2,呈现出深黑色。
6.如权利要求1所述具有光亮岩层图案的被覆件,其特征在于:该基体包括第一表面及与第一表面相背的第二表面,该第一表面包括砂面区及镜面区;该颜色层砂面区在该基体上的垂直投影与所述砂面区相重叠,该颜色层镜面区在该基体上的垂直投影与所述镜面区相重叠。
7.一种具有光亮岩层图案的被覆件的制造方法,包括以下步骤:
提供基体;
对该基体进行抛光处理;
在所述基体上形成颜色层,该颜色层形成有颜色层砂面区及颜色层镜面区,该颜色层镜面区构成岩层的裂纹图案;
在所述颜色层上形成透明层,该透明层形成有透明层砂面区及透明层镜面区,该透明层砂面区在该颜色层上的垂直投影与所述颜色层砂面区相重叠,该透明层镜面区在该颜色层上的垂直投影与所述颜色层镜面区相重叠。
8.如权利要求7所述具有光亮岩层图案的被覆件的制造方法,其特征在于:该被覆件的制造方法还包括采用激光雕刻、喷砂或蚀刻的方法在该基体上形成砂面区的步骤,该颜色层砂面区在该基体上的垂直投影与所述砂面区相重叠。
9.如权利要求7所述具有光亮岩层图案的被覆件的制造方法,其特征在于:该颜色层砂面区通过对颜色层进行激光雕刻、喷砂或蚀刻的方式形成。
10.如权利要求7所述具有光亮岩层图案的被覆件的制造方法,其特征在于:该颜色层为碳化铬层,形成所述碳化铬层的方法为:通过真空镀膜的方式,以氩气为工作气体,氩气流量为160~250sccm,以乙炔为反应气体,乙炔的流量为160~220sccm;以铬靶为靶材,铬靶的功率为14~17kw,溅镀时,施加于基体上的偏压为-100~-150V,镀膜温度为130~180℃,镀膜时间为60~120min。
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