[发明专利]异物清除单元和具有异物清除单元的光学设备有效
申请号: | 201210028944.0 | 申请日: | 2012-02-09 |
公开(公告)号: | CN102636873A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 浦上俊史 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B7/00;H04N5/225 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 异物 清除 单元 具有 光学 设备 | ||
1.一种异物清除单元,包括:
矩形的光学构件,其被配置在光路上,其中,在所述光学构件中设置有光束穿过的光学有效区域;
压电装置,其被设置到在所述光学有效区域的外侧的所述光学构件的边;以及
振动抑制构件,其被设置到所述光学构件的没有设置所述压电装置的边,
其中,所述振动抑制构件被设置到所述光学构件,以使得所述光学构件的设置了所述振动抑制构件的边的端面不从所述振动抑制构件的端面突出。
2.根据权利要求1所述的异物清除单元,其特征在于,
所述振动抑制构件具有长边的长度比所述光学有效区域的长边的长度长的条形形状,以及
所述振动抑制构件被设置到所述光学构件,以使得所述光学有效区域的长边在所述振动抑制构件的长边的范围内。
3.根据权利要求1所述的异物清除单元,其特征在于,还包括:
保持构件,用于保持所述光学构件,
其中,所述保持构件以所述保持构件不与所述振动抑制构件接触的方式保持所述光学构件。
4.根据权利要求3所述的异物清除单元,其特征在于,还包括:
密封构件,其被夹持在所述光学构件和所述保持构件之间,用于密封所述光学有效区域,
其中,所述振动抑制构件以比所述密封构件更靠外侧的方式被设置到所述光学构件。
5.根据权利要求1所述的异物清除单元,其特征在于,
所述振动抑制构件具有形成有比所述光学有效区域大的开口的矩形形状,以及
所述振动抑制构件以使得所述光学有效区域位于所述开口内的方式被设置到所述光学构件。
6.根据权利要求5所述的异物清除单元,其特征在于,还包括:
保持构件,用于保持所述光学构件,
其中,所述保持构件以使得所述振动抑制构件和所述保持构件在所述光学构件的设置了所述振动抑制构件的边附近不接触的方式保持所述光学构件。
7.根据权利要求6所述的异物清除单元,其特征在于,
通过将所述振动抑制构件夹持在所述光学构件和所述保持构件之间,密封所述光学有效区域。
8.根据权利要求1所述的异物清除单元,其特征在于,
所述振动抑制构件被贴附于所述光学构件,以使得所述振动抑制构件的端面从所述光学构件的端面突出,以及
在所述振动抑制构件的从所述光学构件的端面突出的区域上还形成有粘附面。
9.根据权利要求1所述的异物清除单元,其特征在于,
所述压电装置通过激励同时生成第一弯曲振动和第二弯曲振动,以及
所述第二弯曲振动的时间相位不同于所述第一弯曲振动的时间相位,并且所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差1。
10.根据权利要求1所述的异物清除单元,其特征在于,
所述压电装置在与所述光学构件的设置了所述压电装置的边垂直的方向上通过激励生成第一弯曲振动,以使得生成第一驻波,
所述压电装置在与所述光学构件的设置了所述压电装置的边垂直的方向上通过激励生成第二弯曲振动,以使得生成第二驻波,以及
所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差1。
11.一种光学设备,包括:
矩形的光学构件,其被配置在光路上,其中,在所述光学构件中设置有光束穿过的光学有效区域;
压电装置,其被设置到在所述光学有效区域的外侧的所述光学构件的边;以及
振动抑制构件,其被设置到所述光学构件的没有设置所述压电装置的边,
其中,所述振动抑制构件被设置到所述光学构件,以使得所述光学构件的设置了所述振动抑制构件的边的端面不从所述振动抑制构件的端面突出。
12.根据权利要求11所述的光学设备,其特征在于,
所述振动抑制构件具有长边的长度比所述光学有效区域的长边的长度长的条形形状,以及
所述振动抑制构件被设置到所述光学构件,以使得所述光学有效区域的长边在所述振动抑制构件的长边的范围内。
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