[发明专利]用于熔化硅的坩埚和该坩埚使用的脱模剂无效
| 申请号： | 201210027444.5 | 申请日： | 2009-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN102589286A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 大桥忠;梅本净二郎;一木豪 | 申请（专利权）人： | 科发伦材料株式会社 |
| 主分类号： | F27B14/10 | 分类号： | F27B14/10;C30B15/10;C04B41/87 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人： | 陈波;林宇清 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 熔化 坩埚 使用 脱模剂 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于熔化硅的坩埚，包括坩埚主体和在坩埚主体的内表面上形成的保护膜，所述坩埚主体包括耐热材料，
其中，在所述保护膜中，通过氧化膜，多个固体颗粒互相连接，在该固体颗粒中，在其表面上形成氧化膜，并且所述氧化膜的直接内层具有SiOxNy的组分，其中X＞0且Y＞0。
2.一种用于形成保护膜的脱模剂，所述保护膜至少形成在用于熔化硅的坩埚的内表面上，
其中所述脱模剂包括含有多个固体颗粒的粉末，在该固体颗粒中，在其表面上形成氧化膜，所述氧化膜的直接内层具有SiOxNy的组分，其中X＞0且Y＞0。
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