[发明专利]一种测试透射光栅绝对衍射效率的方法

权利要求书

1.一种测试透射光栅绝对衍射效率的方法，该方法通过切换透射光栅和镂空窗口测试衍射光强和入射光强，并计算衍射光强与入射光强度之比得透射光栅的绝对衍射效率。

2.根据权利要求1所述的测试透射光栅绝对衍射效率的方法，该方法具体包括以下步骤：

步骤1：在于支撑结构上制作透射光栅的同时，在该支撑结构上制作用于测试入射光强的镂空窗口；该镂空窗口与透射光栅的形状和面积相同，并平行安装在支撑结构上；

步骤2：在测试透射光栅的衍射光强时，将光源入射到透射光栅上，用探测器在衍射光场中扫描即可得到衍射光强；

步骤3：在测试透射光栅的入射光强时，将镂空窗口平移到刚才透射光栅的位置，用探测器扫描即可得到透射光栅的入射光强；

步骤4：计算衍射光强与入射光强度之比，得透射光栅的绝对衍射效率。

3.根据权利要求2所述的测试透射光栅绝对衍射效率的方法，步骤1中所述镂空窗口与所述透射光栅沿着平行于z轴的方向平行安装在支撑结构上，当入射光斑位置和强度不变，将支撑结构沿着z轴方向平移相同的距离，以使镂空窗口和透射光栅之间的切换，使得二者所接受的入射光强度相同。

4.根据权利要求3所述的测试透射光栅绝对衍射效率的方法，透射光栅和镂空窗口的形状和面积相同，当入射光斑位置和强度不变时，将透射光栅和镂空窗口切换到同一位置时，入射光的面积和强度相同。

5.根据权利要求2所述的测试透射光栅绝对衍射效率的方法，步骤1中所述透射光栅和所述镂空窗口制作在同一个支撑结构上，是通过相同的集成电路工艺流程和方法制作的，具有相同的精度和误差。

6.根据权利要求5所述的测试透射光栅绝对衍射效率的方法，该集成电路工艺流程和方法制作是通过电子束光刻、光学光刻以及电镀技术进行的。

7.根据权利要求2所述的测试透射光栅绝对衍射效率的方法，所述透射光栅和所述镂空窗口的大小为500um×500um到1.5mm×1.5mm之间。

8.根据权利要求2所述的测试透射光栅绝对衍射效率的方法，所述透射光栅和所述镂空窗口之间的距离为5mm到15mm之间。

9.根据权利要求2所述的测试透射光栅绝对衍射效率的方法，由于镂空窗口和透射光栅的形状和面积相同，在光源未发生变化的情况下，透过镂空窗口的光与先前透射光栅的入射光相同。