[发明专利]去除镀铬溶液中有害杂质的设备无效
申请号: | 201210024721.7 | 申请日: | 2012-02-06 |
公开(公告)号: | CN102560614A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 闫瑞景;赵鑫;梁振海;范慧阳;闫景芳;贾雅博 | 申请(专利权)人: | 太原特益达科技有限公司 |
主分类号: | C25D21/16 | 分类号: | C25D21/16;C25D3/04;C25B9/06;C25B9/08;C25B11/02;C25B13/04 |
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地址: | 030024 山西省太*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 去除 镀铬 溶液 有害 杂质 设备 | ||
1.一种去除镀铬溶液中有害杂质的设备,其特征在于,包括:多孔电解隔膜或复合多孔隔膜、阳极、阴极;所述复合多孔隔膜由两层多孔电解隔膜中间夹一层全氟型磺酸型均相阳离子交换隔膜,成为复合多孔隔膜;所述多孔电解隔膜由50-80份刚玉、5-15份添加剂、0.2-1份粘接剂、0.1-0.5份非离子型表面活性剂、5-15份成孔剂经过球磨,混合,注模,成型,干燥,制得多孔电解隔膜。
所述阳极是钛及钛基氧化物或钛合金或铅或铅锡合金,采用φ0.1-10mm粗细的钛及钛基氧化物或钛合金或铅或铅锡合金属丝制作成棱形网状版面,棱形网状版面再经机加工后成为蜂窝结构;
所述阴极是直径为5-100mm的圆柱体;
所述阴极、阳极表面积比1∶2~1∶300。
2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述添加剂使用二氧化硅衍生物、硅酸铝纤维、莫来石、四氟乙烯共聚物或聚合物、氧化钛或石蜡、碳粉或碳酸盐的一种或多种组合。
3.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述粘结剂使用全氟共聚物或聚合物、聚乙烯醇、陶瓷类高温粘接剂的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述非离子型表面活性剂选择乙氧基化非离子型氟碳表面活性剂或全氟表面活性剂JFN-600。
5.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述的成孔剂采用CMC、硅酸铝纤维、淀粉、纳米γ-氧化铝的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,多孔电解隔膜或复合多孔隔膜内的阴极室里盛放20-100g/L铬酸和0.1-2g/L硫酸溶液或磷酸或无机硫酸盐。
7.根据权利要求1所述的装置,其特征是:多孔电解隔膜或复合多孔隔膜外的阳极室里盛放需要净化处理的镀铬溶液,包括镀铬溶液或塑料电镀粗化液。
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