[发明专利]电弧沉积系统及其过滤器

权利要求书

1.一种用于电弧沉积系统的过滤器，其特征在于，所述电弧沉积系统包括细长阴极、阳极和至少一个衬底，所述过滤器包括：

偶数个导管组件，其围绕所述细长阴极对称地放置，所述导管组件定义用于引导等离子体的磁场，并且具有用于阻碍宏观粒子的阻挡部件。

2.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于所述导管组件为电偏压，以排斥正离子。

3.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于所述过滤器能够位于所述阴极和所述衬底之间。

4.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于相邻导管组件具有相反的磁极性。

5.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于所述导管组件的数量是2到8之间的偶数。

6.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于中所述导管组件的数量为四。

7.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于所述阻挡部件位于所述导管组件朝向所述阴极的一侧，从而阻档在所述阴极和衬底区之间的视线。

8.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于所述阻挡部件具有带正电的表面。

9.根据权利要求1所述的过滤器，其特征在于导管组件围绕有磁场，所述磁场具有垂直于细长圆柱形阴极表面的方向，以及有利于进行等离子体引导的强度，所述强度是通过使电流流过所述导管组件而产生的。

10.一种用于电弧沉积系统的过滤器，其特征在于，所述电弧沉积系统包括细长阴极、阳极和至少一个衬底，所述过滤器包括：

偶数个导管组件，其围绕所述细长阴极对称地放置，所述导管组件定义用于引导等离子体的磁场，以及用于排斥正离子的电偏压，且所述导管组件具有用于阻碍宏观粒子的阻挡部件，所述阻挡部件具有带正电的表面。

11.根据权利要求10所述的过滤器，其特征在于所述过滤器能够位于所述阴极和所述衬底之间。

12.根据权利要求10所述的过滤器，其特征在于相邻导管组件具有相反的磁极性。

13.根据权利要求10所述的过滤器，其特征在于所述导管组件的数量是2到8之间的偶数。

14.根据权利要求10所述的过滤器，其特征在于所述阻挡部件位于所述导管组件朝向所述阴极的一侧，从而阻挡在所述阴极和衬底区之间的视线。

15.根据权利要求10所述的过滤器，其特征在于所述导管组件围绕有磁场，所述磁场具有垂直于细长圆柱形阴极表面的方向，以及有利于进行等离子体引导的强度，所述强度是通过使电流流过所述导管组件而产生的。

16.一种电弧沉积系统，其特征在于，其包括：

细长阴极；

衬底区，其具有围绕电弧阴极设置的多个衬底；

阳极，其位于远离细长电弧阴极的位置；

负偏压衬底区；以及

过滤器，其设置在所述阴极和所述衬底之间，所述过滤器包括：

偶数个导管组件，其围绕所述细长阴极对称地放置，所述导管组件形成用于引导等离子体的磁场，并且具有用于阻碍宏观粒子的阻挡部件，其中所述导管组件能够选择施以电偏压，以排斥正离子。

17.根据权利要求16所述的电弧沉积系统，其特征在于相邻导管组件具有相反的磁极性。

18.根据权利要求16所述的电弧沉积系统，其特征在于所述导管组件的数量是2到8之间的偶数。

19.根据权利要求16所述的电弧沉积系统，其特征在于所述阻挡部件位于所述导管组件朝向所述阴极的一侧，从而阻挡在所述阴极和所述衬底区之间的视线。

20.根据权利要求16所述的电弧沉积系统，其特征在于所述阻挡部件具有带正电的表面。

21.根据权利要求16所述的电弧沉积系统，其特征在于所述导管组件围绕有磁场，所述磁场具有垂直于细长圆柱形阴极表面的方向，以及有利于进行等离子体引导的强度，所述强度是通过使电流流过所述导管组件而产生的。

22.根据权利要求16所述的电弧沉积系统，特征在于，进一步包括多个永久磁铁，用于调整所述磁场。