[发明专利]照射系统、光刻设备和方法

权利要求书

1.一种照射系统，所述照射系统包括配置成朝向光瞳面引导辐射的可控反射镜阵列和配置成朝向所述可控反射镜阵列引导辐射子束的透镜阵列；

其中所述透镜阵列的第一透镜和所述可控反射镜阵列中的可控反射镜形成了具有第一光焦度的第一光通道，所述透镜阵列中的第二透镜和所述可控反射镜阵列中的可控反射镜形成具有第二光焦度的第二光通道，使得由所述第一光通道形成的辐射子束在所述光瞳面处具有第一横截面面积和形状，由所述第二光通道形成的辐射子束在所述光瞳面处具有第二不同的横截面面积和/或形状。

2.根据权利要求1所述的照射系统，其中所述第一光通道是具有所述第一光焦度的一组光通道中的一个，所述第二光通道是具有所述第二光焦度的一组光通道中的一个。

3.根据权利要求2所述的照射系统，其中第三组光通道由第三组透镜和可控反射镜形成，所述第三组光通道设置有第三光焦度，使得由所述第三组光通道形成的辐射子束在所述光瞳面处具有第三不同的横截面面积和/或形状。

4.根据权利要求2或3所述的照射系统，其中具有相同光焦度的至少一组透镜或可控反射镜设置成彼此相邻。

5.根据前述权利要求中任一项所述的照射系统，其中所述照射系统还包括额外的透镜阵列，所述额外的透镜阵列被沿着所述照射系统的光轴与所述透镜阵列分开。

6.根据权利要求5所述的照射系统，其中所述透镜阵列或所述额外的透镜阵列能够沿着所述照射系统的光轴移动。

7.根据权利要求5或6所述的照射系统，其中所述额外的透镜阵列或所述透镜阵列的子组能够沿着所述照射系统的光轴移动。

8.根据前述权利要求中任一项所述的照射系统，其中所述透镜阵列或所述额外的透镜阵列中的至少一些透镜是圆柱透镜。

9.根据权利要求5或8所述的照射系统，其中沿第一方向提供光焦度的至少一些圆柱透镜设置在所述透镜阵列中，沿第二大致垂直的方向提供光焦度的至少一些相关的圆柱透镜设置在所述额外的透镜阵列中。

10.根据前述权利要求中任一项所述的照射系统，其中所述可控反射镜阵列是多个可控反射镜阵列中的一个。

11.根据权利要求10所述的照射系统，其中所述可控反射镜阵列中的至少一个阵列包括反射镜，所述反射镜具有光焦度，所述光焦度不同于至少另一可控反射镜阵列中的反射镜的光焦度。

12.一种光刻设备，包括：

根据前述权利要求中任一项所述的照射系统，所述照射系统配置成提供辐射束；

用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置用于在辐射束的横截面中将图案赋予辐射束；

用于保持衬底的衬底台；和

投影系统，用于将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上。

13.一种形成照射模式的方法，所述方法包括：使用透镜阵列将辐射束分离成辐射子束，所述辐射子束入射到可控反射镜阵列中的反射镜上；和利用所述可控反射镜阵列朝向光瞳面引导所述辐射子束；

其中第一透镜和可控反射镜形成了具有第一光焦度的第一光通道，第二透镜和可控反射镜形成了具有第二光焦度的第二光通道，使得由所述第一光通道形成的辐射子束在所述光瞳面处具有第一横截面面积和形状，由所述第二光通道形成的辐射束子束在所述光瞳面处具有第二不同的横截面面积和/或形状。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述照射系统还包括额外的透镜阵列，所述方法还包括通过改变所述透镜阵列和所述额外的透镜阵列之间的间隔来调节所述辐射子束的横截面面积。

15.一种照射系统，所述照射系统包括用于朝向光瞳面引导辐射的至少两个可控反射镜阵列和配置成朝向所述至少两个可控反射镜阵列引导辐射子束的至少两个相关的透镜阵列；

其中第一阵列中的透镜和可控反射镜形成了具有第一光焦度的光通道，第二阵列中的透镜和可控反射镜形成了具有第二光焦度的光通道，使得由所述第一阵列的透镜和可控反射镜形成的辐射子束在所述照射系统的光瞳面处具有第一横截面面积和形状，由所述第二阵列的透镜和可控反射镜形成的辐射子束在所述照射系统的光瞳面处具有第二不同的横截面面积和/或形状。