[发明专利]一种高度定位气体压力支撑装置

说明书

技术领域

本发明涉及压力支撑领域，尤其是涉及一种定位气体压力支撑装置。

背景技术

ITO(Indium Tin Oxides，铟锡氧化物)是铟锡氧化物的英文缩写，它是一种透明的导电体，通常厚度只有几千埃，在所有在透明导电体中，其具有特别优良的性能：高的可见光透过率，高的红外反射率，良好的机械强度和化学稳定性，用酸溶液等湿法刻蚀工艺能很容易形成一定的电极图极，制备相对比较容易等，这使它广泛用于各种电子及光电子器件，如手机和电脑等平板显示领域。因此，对ITO薄膜玻璃的表面质量要求非常高。

20世纪90年代初，随着LCD器件的飞速发展，对ITO薄膜产品的需求量也是急剧的增加，国内部分厂家纷纷开始从国外引进一系列整厂ITO镀膜生产线，但由于进口设备的价格昂贵，技术服务不方便等因素，使许多厂商还是望而却步。

80年代末，中国诞生了第一条TN-LCD用ITO连续镀膜生产线。90年代中期，随着国内LCD产业的发展，对ITO产品的需求量增大的同时，对产品的质量有了新的要求，因此出现了第二代ITO镀膜生产线。99年，有效的解决了射频磁控溅射沉积SiO2薄膜的沉积速率慢影响生产线的产能和设备的利用率等一系列问题，同时出现了第三代大型高档ITO薄膜生产线。随着反射式LCD，增透式LCD、LCOS图影机背投电视等显示器件的发展，对ITO薄膜产品提出了更高的要求，SiO2/ITO两层膜结构的ITO薄膜材料满足不了使用的需要，而比须采用多层复合膜系已达到产品的高反射性、或高透过率等光学性能要求。积累多年的设计开发经验，国内生产企业推出了第四代大型多层薄膜生产线。该生产线由15个真空室组成，采用全分子泵无油真空系统、使用了RF/MF/DC三种磁控溅射工艺、通过PEM/PCV进行工艺气体的控制。该生产线具有连续沉积五层薄膜的能力。

随着PDA、电子书等触摸式输入电子产品的悄然兴起，相应材料的制成设备也应运而生。由于触摸式产品工作原理的特殊性，其所需的ITO薄膜必须是在柔性材料（PET）上制成的，薄膜的沉积温度不能太高（小于120℃），同时要求ITO膜层较薄、面电阻高而且均匀，所以对ITO薄膜的沉积工艺提出了严格的要求。

随着对ITO薄膜制作工艺要求的进一步苛刻，对ITO薄膜制品在加工、处理、运输过程中，有着更加严格的要求。

早期的ITO膜玻璃均为单面镀膜，随着iphone手机等设备的出现越来越多地采用双面ITO膜玻璃。在ITO薄膜玻璃制备、加工领域中，使用的支撑机构大多比较粗糙，很多直接使用支撑平台，不仅增大轻薄的ITO薄膜玻璃与平台的接触面，容易沾上较多的灰尘，而且也容易在ITO薄膜玻璃与支撑平台发生相对位移时，发生摩擦，造成ITO薄膜玻璃表面划伤，同时在取放时也不是非常方便。鉴于此，在降低轻薄ITO薄膜制品与接触面之间的多少和摩擦，以减少可能造成的表面污染和可能发生的相对移动时造成的损伤，成为一种理想的选择；同时，在ITO膜玻璃加工过程中，支撑装置的平面度也相当重要，在采取阵列支撑装置同时进行加工时，如果平面度不够精准，很容易造成表面加工损伤，因此一种在达到减少表面污染和因滑动造成损伤的同时，需要保证支撑阵列高度的精确一致。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种高度定位气体压力支撑装置，所述高度定位气体压力支撑装置可降低接触件之间的摩擦力，降低两者之间的磨损，同时可提供任意方向的转动，允许球体与接触件任意方向都可以存在位移，并且可以提供精确的预定压力，同时，可以保证当气体压力柱阵列联接平台上时，柱体顶端形成的平面具有精确的平面度。

根据本发明实施例的一种高度定位气体压力支撑装置，包括：由若干定位高度气体压力柱组成的定位高度气体压力柱阵列，所述定位高度气体压力柱包括球体和柱体；内部设有规则通气管道的基座，所述定位高度气体压力柱阵列与所述基座相联。