[发明专利]吸附台

权利要求书

1.一种吸附台，使工件保持在平坦的载放面上，在该工件上曝光光被成像而使既定的掩模图形曝光，其特征在于，

包括：

固定吸附机构，可吸附所述工件而使所述工件相对所述载放面的姿态固定，

平面吸附机构，可吸附所述工件而使所述工件的面与所述载放面抵接，

所述平面吸附机构具有多个在所述载放面上开设的平面吸附孔，从所述载放面上的任意一点起朝向所述载放面的外缘，按顺序进行利用所述平面吸附孔的吸附动作。

2.根据权利要求1所述的吸附台，其特征在于，

所述平面吸附机构在所述载放面上具有多个吸附分区，在该各吸附分区内具有至少1个所述平面吸附孔，并且按照所述各吸附分区单位进行所述各平面吸附孔的吸附动作。

3.根据权利要求1或2所述的吸附台，其特征在于，

所述固定吸附机构在所述载放面上具有至少2个固定吸附部，该各固定吸附部可以以其上端面吸附到所述工件上。

4.根据权利要求3所述的吸附台，其特征在于，

所述各固定吸附部在已将所述工件吸附保持的状态下，所述固定吸附部的上端面可以沿所述载放面的方向改变位置。

5.根据权利要求3所述的吸附台，其特征在于，

还具有相对所述载放面沿所述载放面的正交方向自如进退的、上端具有吸附面的升降销，

所述各固定吸附部能够在使所述固定吸附部的上端面从所述载放面起沿所述正交方向伸出的状态下，对所述工件吸附保持，而且在吸附保持所述工件的状态下，所述固定吸附部的上端面和所述载放面能够成为同一水平面。

6.根据权利要求1或2所述的吸附台，其特征在于，

所述平面吸附机构从所述载放面的中心位置起朝向所述载放面的周缘部，按顺序进行利用所述各平面吸附孔的吸附动作。

7.根据权利要求1或2所述的吸附台，其特征在于，

所述平面吸附机构从所述载放面的缘部起朝向穿过所述载放面的中心位置的方向，按顺序进行利用所述各平面吸附孔的吸附动作。

8.根据权利要求1或2所述的吸附台，其特征在于，

所述平面吸附机构根据已进行吸附动作的所述平面吸附孔的吸附状态，进行利用接下来的所述平面吸附孔的吸附动作。

9.根据权利要求1或2所述的吸附台，其特征在于，

所述平面吸附机构根据由所述固定吸附机构保持的所述工件的挠曲，对所述各平面吸附孔的吸附动作的顺序进行设定。

10.一种载放台，对所述工件相对所述曝光光进行成像的基准平面而言的位置以及姿态进行控制，其特征在于，

采用权利要求1或2中所述的吸附台。

11.一种曝光装置，其特征在于，采用在权利要求1或2中所述的吸附台。