[发明专利]磁阻式随机存储器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210012951.1 申请日: 2012-01-16
公开(公告)号: CN102881820A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 刘明德;江典蔚;高雅真;陈文正 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/12;G11C11/16
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁阻 随机 存储器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种磁阻式随机存储器(MRAM)单元,包括:

磁隧道结(MTJ);

顶部电极,设置在所述MTJ上方;

底部电极,设置在所述MTJ下方;以及

感应线,设置在所述MTJ的一侧,

其中,所述感应线配置为在所述MTJ处感生出垂直磁场。

2.根据权利要求1所述的MRAM单元,其中,所述感应线形成在与所述顶部电极相同的层中,或者

所述感应线形成在与所述底部电极相同的层中;或者

所述感应线形成在与所述MTJ相同的层中;或者

所述MTJ具有卵形或椭圆形的形状;或者

所述MRAM单元是自旋传递扭矩(STT)MRAM单元。

3.根据权利要求1所述的MRAM单元,其中,所述MTJ包括自由层、固定层以及设置在所述自由层和所述固定层之间的绝缘体,所述固定层具有固定的磁极性,而所述自由层具有可变的磁极性。

4.根据权利要求3所述的MRAM单元,其中,所述自由层包括CoFeB或NiFe;或者

所述固定层包括CoFe或CoFeB;或者

该绝缘体包括MgO或Al2O3

5.一种制造磁阻式随机存储器(MRAM)单元的方法,包括:

在衬底上方形成底部电极;

在所述底部电极上方形成磁隧道结(MTJ);

在所述MTJ上方形成顶部电极;以及

形成在所述MTJ一侧设置的感应线,其中,所述感应线配置为在所述MTJ处感生出垂直磁场。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述感应线形成在与所述顶部电极相同的层中;或者

所述感应线形成在与所述底部电极相同的层中;或者

所述感应线形成在与所述MTJ相同的层中。

7.根据权利要求5所述的方法,其中,形成所述MTJ包括:

在所述底部电极上方形成具有固定磁极性的固定层;

在所述固定层上方形成绝缘体;以及

在所述绝缘体上方形成具有可变磁极性的自由层。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述自由层包CoFeB或NiFe;或者

所述固定层包括CoFe或CoFeB;或者

该绝缘体包括MgO或Al2O3

9.一种磁阻式随机存储器(MRAM)单元,包括:

磁隧道结(MTJ),包括自由层、固定层以及设置在所述自由层和所述固定层之间的绝缘体,其中,所述固定层具有固定的磁极性,而所述自由层具有可变的磁极性;

顶部电极,设置在所述MTJ上方;

底部电极,设置在所述MTJ下方;以及

感应线,设置在所述MTJ一侧,

其中,所述感应线被配置为在所述MTJ处感生出垂直磁场,并且所述MTJ具有卵形或椭圆形的形状。

10.根据权利要求9所述的MRAM单元,其中,所述MTJ处在通孔上方。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210012951.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top