[发明专利]曝光装置、曝光方法以及器件制造方法有效

专利信息
申请号: 201210012709.4 申请日: 2004-02-26
公开(公告)号: CN102495540A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 长坂博之 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 崔成哲
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 方法 以及 器件 制造
【权利要求书】:

1.一种曝光装置,通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上来曝光基板,该曝光装置包括:

把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统;

为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域而向基板上提供液体的液体供给机构;

在离开投影区域的回收位置上进行基板上的液体回收的液体回收机构;

被配置在相对投影区域由液体回收机构进行的液体回收位置的外侧且形成有捕捉液体的液体收集面的收集部件。

2.权利要求1所述的曝光装置,上述收集面被实施了提高和上述液体的亲和性的处理。

3.权利要求2所述的曝光装置,上述收集面对上述液体的亲和性比上述基板表面对上述液体的亲和性高。

4.权利要求1所述的曝光装置,上述收集面相对水平面倾斜。

5.权利要求1所述的曝光装置,上述收集面被配置成包围上述投影区域且根据上述收集面的位置其长度不同。

6.权利要求1所述的曝光装置,在上述收集面上被捕捉到的液体被上述液体回收机构回收。

7.权利要求1所述的曝光装置,上述液体供给机构在由上述液体回收机构进行的液体回收位置和上述投影区域之间进行液体的供给。

8.一种曝光装置,通过把规定图案的像投影到基板上来曝光基板,该曝光装置包括:

把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统;

为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域而向基板上提供液体的液体供给机构;

在离开投影区域的回收位置上进行基板上的液体回收的液体回收机构,

由液体供给机构进行的液体的供给在液体回收机构的液体回收位置和投影区域之间进行。

9.权利要求7或8所述的曝光装置,上述液体供给机构根据执行的动作改变液体的供给量。

10.权利要求9所述的曝光装置,一边移动上述基板一边扫描曝光上述基板上的各拍摄区域,上述液体供给机构使液体的供给量在上述基板上的2个拍摄区域之间的步进移动期间和各拍摄区域的曝光期间彼此不同。

11.权利要求1以及8的任一项所述的曝光装置,上述液体供给机构提供对上述投影光学系统的前端的液体接触面的亲和性比对上述基板表面的亲和性高的液体。

12.权利要求11所述的曝光装置,上述液体是水,上述投影光学系统的前端的液体接触面被实施了亲水化处理,在上述基板表面上涂布有防水性的感光材料。

13.一种器件制造方法,使用权利要求1以及8的任一项所述的曝光装置。

14.一种曝光方法,通过隔着液体把规定图案的由投影光学系统产生的像投影到基板上来曝光基板,该曝光方法包括:

向包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上提供对投影光学系统的前端的液体接触面的亲和性比对基板表面的亲和性还高的液体以形成液浸区域;

隔着提供给上述液浸区域的液体把规定图案的像投影到基板上。

15.权利要求14所述的曝光方法,上述液体是水,上述投影光学系统的前端的液体接触面被实施了亲水化处理,在上述基板表面上涂布有防水性的感光材料。

16.权利要求14所述的曝光方法,在上述基板的曝光期间,在上述基板上进行上述液体供给的同时,回收上述基板上的液体。

17.一种器件制造方法,使用权利要求14所述的曝光方法。

18.一种曝光装置,通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上来曝光基板,该曝光装置包括:

把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统;

具有向上述基板上提供液体的供给流路的液体供给机构;

具有回收所供给的液体的回收流路的液体回收机构,

上述供给流路以及回收流路的至少一方被形成在叠层有多个板状部件的叠层部件中。

19.权利要求18所述的曝光装置,形成有配置了投影光学系统的一部分的贯通孔以在上述叠层部件的中央在叠层部件的厚度方向上贯通叠层部件。

20.权利要求18或者19所述的曝光装置,上述供给流路以及回收流路的至少一方被形成为在厚度方向上贯通至少2个板状部件。

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