[发明专利]一种台阶模板的制作方法有效

专利信息
申请号: 201210010742.3 申请日: 2012-01-16
公开(公告)号: CN103203968B 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 魏志凌;高小平;吴建 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: B41C1/14 分类号: B41C1/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 台阶 模板 制作方法
【权利要求书】:

1.一种台阶模板及其混合制备工艺,

其特征在于,该种模板PCB面具有凸起台阶(up step)特征(图1)。

2.根据权利要求1所述的台阶模板,其特征在于,台阶模板由混合工艺制备而成,包括蚀刻、激光切割和电抛光三种工艺。

3.根据权利要求2所述的台阶模板的混合制备工艺,其特征在于,制备工艺的具体流程如下:

(1)模板PCB面凸起区域制作:基板处理→前处理(除油、酸洗)→双面贴膜→PCB面曝光→PCB面显影→蚀刻PCB面

(2)模板半刻盲孔的制作:模板PCB面二次贴膜→印刷面曝光→印刷面显影→蚀刻印刷面→模板褪膜

(3)模板开口的制作:印刷面激光切割

(4)模板开口后续处理:电抛光去毛刺,改善蚀刻及激光切割后的板面及开口质量并制得的模板。

4.根据权利要求3所述的台阶模板的混合制备工艺,其特征在于,基板的材料为不锈钢、纯镍、镍铁中的一种。

5.根据权利要求3所述的台阶模板的混合制备工艺,其特征在于,印刷面具有至少两个盲孔,且模板印刷面盲孔处于对角位置。

6.根据权利要求1所述的台阶模板,其特征在于,平面区域和PCB面凸起区域具有满足印刷要求的开口。

7.根据权利要求2、3所述的台阶模板的混合制备工艺,其特征在于,前处理工艺参数如下:

除油时间1~2min酸洗时间1~2min压力(pis)1~3

8.根据权利要求2、3所述的台阶模板的混合制备工艺,其特征在于,曝光显影工艺参数如下:

曝光量(mj)100~1000曝光时间(min)5~15显影时间(min)5~10

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