[发明专利]蒸镀用狭长沟槽掩模板无效
申请号: | 201210010699.0 | 申请日: | 2012-01-16 |
公开(公告)号: | CN103205686A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 魏志凌;高小平;郑庆靓 | 申请(专利权)人: | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
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地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸镀用 狭长 沟槽 模板 | ||
1.一种蒸镀用狭长沟槽掩模板,形状为四边形金属板,包括与铟锡氧化物(ITO)面接触的ITO面和蒸镀面两个面,所述掩模板上具有贯通ITO面和蒸镀面的狭长沟槽开口,在ITO面上的狭长沟槽开口和在蒸镀面上的狭长沟槽开口中心重合,所述狭长沟槽开口相互间隔且相互平行; ITO面上的狭长沟槽开口面积小于在蒸镀面上的狭长沟槽开口面积。
2.根据权利要求1所述的蒸镀用狭长沟槽掩模板,其特征在于所述ITO面和蒸镀面上的槽状开口横向通过若干个实桥,将开口连接起来;所述掩模板为矩形,厚度为5~200μm。
3. 根据权利要求2所述的蒸镀用狭长沟槽掩模板,其特征在于所述通过横向实桥将狭长沟槽开口在ITO面等距间隔开来。
4.根据权利要求1所述的蒸镀用狭长沟槽掩模板,其特征在于槽状开口在掩模板的厚度方向上垂直剖面图为葫芦状,ITO面和蒸镀面的槽状开口具有倒锥角,ITO面开口的倒锥角角度小于蒸镀面的槽状开口的锥角的角度;蒸镀面狭长沟槽开口的锥角在30~50°。
5.根据权利要求4所述的蒸镀用狭长沟槽掩模板,其特征在于所述的ITO面的横向尺寸精度控制在±5μm;ITO面的倒锥角开口的垂直深度在5~25μm。
6.根据权利要求5所述的蒸镀用狭长沟槽掩模板,其特征在于ITO面的倒锥角开口的垂直厚度小于等于蒸镀面锥角开口的垂直厚度。
7.根据权利要求1所述的蒸镀用狭长沟槽掩模板,其特征在于掩模板材料为不锈钢、纯镍、镍钴合金、镍铁合金、因瓦合金中的任意一种金属板;掩模板厚度为10~50μm。
8.根据权利要求1所述的蒸镀用狭长沟槽掩模板,其特征在于蒸镀面大尺寸狭长沟槽开口(2)侧壁为光滑锥壁。
9.根据权利要求1所述的蒸镀用狭长沟槽掩模板,其特征在于ITO面小尺寸狭长沟槽开口侧壁为光滑倒锥壁,锥度为0-8°。
10.根据权利要求1所述的蒸镀用狭长沟槽掩模板,其特征在于所述掩模板使用时,ITO面与蒸镀基板ITO玻璃紧密贴紧,有机材料通过ITO面开口蒸镀到ITO玻璃基板上。
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