[发明专利]一种水晶片预镀银清洗工艺无效
申请号: | 201210000476.6 | 申请日: | 2012-01-04 |
公开(公告)号: | CN102517567A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 李少强;王苏琴;陆小平 | 申请(专利权)人: | 苏州日本电波工业有限公司 |
主分类号: | C23C18/04 | 分类号: | C23C18/04;B08B3/12 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 顾伯兴 |
地址: | 215011 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 水晶 镀银 清洗 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及一种清洗工艺,尤其是涉及一种水晶片镀银前对其进行清洗的水晶片预镀银清洗工艺。
背景技术
在很长一段时间内人们都认为所有的引脚元件最终都可采用水晶片封装;用于封装的水晶片在使用前需要在表面镀银,镀银前需要对水晶片表面的油污、氧化膜进行清洗,这清洗工序直接影响镀银层与基体金属的结合强度,所以在镀银前需要彻底除尽水晶片表面的油污及氧化膜。
传统的水晶片表面镀银前进行的清洗工序如图3所示,包括:晶片入框、清洗、干燥、翻转和镀银,其中,晶片入框是将水晶片放入清洗框内,采用的清洗工序如图4所示,包括顺序流程的九个工序:IPA超音波、热流水清洗、常温硫酸清洗、热硫酸清洗、热流水清洗、腐蚀前纯水置换、腐蚀、纯水置换和流纯水超音波,在具体的实际操作中,对水晶片进行清洗的九个工序中,每个工序需要二十分钟的清洗时间,且工序繁琐,并且,采用上述清洗工艺中的酸碱溶液清洗会造成抛光面的擦洗纹路,造成抛光面失光,且很大程度上影响镀层的结合力,硫酸以及腐蚀工艺的重复使用导致镀银后会产生细微的麻点;在清洗后,需要对水晶片表面镀银时还需要将清洗的水晶片进行翻转,在实际操作中翻转需要长期的熟练工人操作,而且会对水晶片造成二次污染,很大程度上增加了清洗成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种解决原有传统清洗工序中存在的诸多缺点,并缩短清洗工序、提高工作效率、降低清洗成本的水晶片预镀银清洗工艺。
本发明解决其技术问题所采取的技术方案是:一种水晶片预镀银清洗工艺,所述清洗工艺包括晶片入框、清洗、干燥和镀银,其中,所述晶片入框是镀银框,将需要在表面镀银的水晶片放入镀银框内;所述清洗包括顺序操作流程的超声波清洗、纯水喷淋清洗和纯水超声波洗净,去除水晶片外表面上的油污及氧化膜;所述干燥是将清洗后的水晶片放入干燥机内干燥,提高水晶片外表面成分的稳定性,最后在水晶片表面进行镀银。
进一步的,所述清洗过程中采用的纯水的纯度高于10兆欧,利用风刀切水,再利用纯净的热风进行对水晶片表面的干燥,避免由于部分水晶片表面留有的水渍产生粘合的情况。
本发明的有益效果是:本发明清洗工艺采用超声波清洗、纯水喷淋清洗和纯水超声波清洗的方法,代替原有清洗工艺中采用溶剂型清洗剂和酸碱性清洗剂的传统清洗工艺,清洗装置由原来的22台缩减到5台即可达到清洗效率,同时人员调配上,由原来的219人缩减到144人,即可完成预镀银前部的清洗工序,节省了大量的清洗时间,提高了工作效率,降低了人工成本;同时,在预镀银前节省了翻转水晶片的工序,避免了人工的二次污染。
附图说明
图1是本发明工艺流程示意图;
图2是本发明中清洗工艺内示意图;
图3是原有预镀银清洗工艺示意图;
图4是图3中清洗工艺内示意图。
具体实施方式
如图1和图2所示一种水晶片预镀银清洗工艺,所述清洗工艺包括晶片入框、清洗、干燥和镀银,其中,所述晶片入框是镀银框,将需要在表面镀银的水晶片放入镀银框内;所述清洗包括顺序操作流程的超声波清洗、纯水喷淋清洗和纯水超声波洗净,去除水晶片外表面上的油污及氧化膜,先利用超声波清洗设备进行前期外表面清洗,之后利用纯度为10兆欧以上的纯水对其表面进行喷淋,最后再由纯水超声波清洗,保证水晶片表面的清洁度;所述干燥是将清洗后的水晶片放入干燥机内干燥,提高水晶片外表面成分的稳定性,最后在水晶片表面进行镀银。
进一步的,所述清洗过程中采用的纯水的纯度高于10兆欧,利用风刀切水,再利用纯净的热风进行对水晶片表面的干燥,避免由于部分水晶片表面留有的水渍产生粘合的情况。
本发明清洗工艺采用超声波清洗、纯水喷淋清洗和纯水超声波清洗的方法,代替原有清洗工艺中采用溶剂型清洗剂和酸碱性清洗剂的传统清洗工艺,避免在取出水晶片表面油污以及氧化膜的同时对其表面造成擦洗问路的问题,清洗装置由原来的22台缩减到5台即可达到清洗效率,同时人员调配上,由原来的219人缩减到144人,即可完成预镀银前部的清洗工序,节省了大量的清洗时间,提高了工作效率,降低了人工成本;同时,在预镀银前节省了翻转水晶片的工序,避免了人工的二次污染。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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