[其他]允许单元在包括碰撞模式和反应模式的至少两种模式之间切换的系统和操作质谱仪的工具套件

权利要求书

1.一种配置成允许单元在包括碰撞模式和反应模式的至少两种模式之间切换的系统，所述系统包括： 

单元，所述单元配置成在碰撞模式下接收碰撞气体以对所述单元增压以及配置成在反应模式下接收反应气体以对所述单元增压；以及 

电耦合到所述单元的控制器，所述控制器配置成在所述碰撞模式下向所述增压的单元提供第一有效电压以选择包含比选定的势垒能更大能量的离子，所述控制器还配置成在所述反应模式下向所述增压的单元提供第二有效电压以使用质量过滤来选择离子。 

2.如权利要求1所述的系统，其中所述系统还配置成允许切换到排气模式。 

3.如权利要求1所述的系统，其中所述系统还包括气体歧管，所述气体歧管流体方式耦合到所述单元的气体进口。 

4.如权利要求1所述的系统，其中所述单元包括四极杆。 

5.如权利要求4所述的系统，其中所述单元包括位于所述单元的出口孔附近且电耦合到电压源的出口构件，所述出口构件配置成在所述增压的单元中将分析物离子引向所述单元的所述出口孔。 

6.如权利要求5所述的系统，其中所述出口构件包括在所述碰撞模式下介于-60伏特与-18伏特之间的电势。 

7.如权利要求5所述的系统，其中所述出口构件包括在所述反应模式下介于-20伏特与0伏特之间的电势。 

8.如权利要求5所述的系统，其中所述单元包括位于所述单元的入口孔附近且电耦合到所述电压源的入口构件，所述入口构件配置成将分析物离子引入所述增压的单元中并引向所述单元的所述出口孔。 

9.如权利要求8所述的系统，其中所述入口构件包括在所述碰撞模式下介于-10伏特与+2伏特之间的电势。 

10.如权利要求8所述的系统，其中所述入口构件包括在所述反应模式下与所述出口构件的电势基本相同的电势。 

11.如权利要求1所述的系统，其中所述单元配置成通过在将反应气 体引入所述单元之前排空所述单元以从所述碰撞模式切换到所述反应模式。 

12.如权利要求1所述的系统，其中所述单元配置成通过在将碰撞气体引入所述单元之前排空所述单元以从所述反应模式切换到所述碰撞模式。 

13.如权利要求1所述的系统，还包括耦合到所述单元的附加单元，所述附加单元配置成在碰撞模下接收碰撞气体以对所述附加单元增压以及在反应模式下接收反应气体以对所述附加单元增压。 

14.如权利要求13所述的系统，其中所述控制器配置成在所述反应模式下操作所述单元和所述附加单元的至少其中之一以及在标准模式下操作所述单元和所述附加单元中的另一个单元。 

15.如权利要求13所述的系统，其中所述控制器配置成在所述碰撞模式下操作所述单元和所述附加单元的至少其中之一以及在标准模式下操作所述单元和所述附加单元中的另一个单元。 

16.如权利要求13所述的系统，其中该控制器配置成在所述碰撞模式下操作所述单元和所述附加单元的至少其中之一以及在所述反应模式下操作所述单元和所述附加单元中的另一个单元。 

17.如权利要求13所述的系统，其中所述控制器配置成均在所述碰撞模式下操作所述单元和所述附加单元。 

18.如权利要求13所述的系统，其中所述控制器配置成均在所述反应模式下操作所述单元和所述附加单元。 

19.如权利要求13所述的系统，其中所述控制器配置成均在标准模式下操作所述单元和所述附加单元。 

20.如权利要求1所述的系统，还包括轴向电极，所述轴向电极电耦合到电压源且配置成提供轴向场以将离子引向所述单元的出口孔。 

21.如权利要求20所述的系统，其中所述轴向场包括介于0.1V/cm与0.5V/cm之间的场梯度。 

22.如权利要求1所述的系统，其中所述控制器还配置成向所述单元提供偏移电压。 

23.如权利要求22所述的系统，还包括质量分析仪，所述质量分析仪 耦合到所述单元且包括偏移电压。