[发明专利]在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置

说明书

技术领域

本发明涉及在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置。

背景技术

微光刻用于制造例如集成电路或液晶显示器的微结构组件。所述微光刻工艺在具有照明系统及投射物镜的所谓投射曝光设备中进行。在该情况中，利用照明系统照明的掩模(掩模母版)的像利用投射物镜而投射到涂有感光层(光刻胶)并配置在投射物镜像平面中的基板(例如硅晶片)上，从而将掩模结构转印到基板上的感光涂层。

由于缺乏可用的合适透明折射材料，反射镜用作针对EUV范围(即，波长例如约13nm或约7nm)设计的投射物镜中用于成像过程的光学组件。实际上发生的问题在于，因吸收EUV光源发射的辐射而造成EUV反射镜经历温度上升，进而产生热膨胀或变形，此膨胀或变形进而会造成光学系统成像性质的恶化。为了评估这些效应并尽可能地补偿，因此就热致动而言，需要尽可能精确地确定反射镜温度上升的程度，并尽可能将其控制。关于此点，在实际上可产生其它问题，即，在微光刻工艺中利用特殊照明设定(例如二极或四极设定)及利用掩模母版造成的衍射级，由EUV辐射所造成的热输入会在光瞳附近反射镜的光学有效截面上变化，也就是说，这涉及将非均匀的热输入反射镜。此外，掩模的场变化及／或部分遮蔽全部的场会导致在场的附近的反射镜上造成不均匀的光强度。

反射镜温度测量及／或致动反射镜或其目标变形的方法可由例如WO2010／018753A1、US2004／0051984A1、WO2008／034636A2、DE102009024118A1及WO2009／046955A2得知。

发明内容

本发明的目的在于提供一种在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置，其允许快速且可靠的热致动，而不会不利地影响光刻工艺，并能至少部分地补偿因在该微光刻投射曝光设备的操作中吸收辐射而造成的反射镜的热表面变形。

该目的通过依照独立权利要求特征的布置而实现。

在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置中，其中该反射镜具有光学有效表面以及至少一个进入通道，该至少一个进入通道在光学有效表面的方向上自反射镜不对应于所述光学有效表面的表面延伸，其中该布置设计用于利用在进入通道中传播的电磁辐射热致动反射镜，该布置还具有至少一个热辐射装置，其产生在进入通道中传播的电磁辐射，其中热辐射装置可沿着进入通道致动。

根据本发明，可改变反射镜的加热区(尤其是在反射镜的光学有效表面的区域中)与反射镜利用热致动最后实现的逆变形，使得实现与此相关的在反射镜热致动方面的另一自由度。特别地，利用热致动反射镜实现的逆变形可至少部分补偿因为在该微光刻投射曝光设备运作中吸收光源发射的辐射而使反射镜产生的热表面变形。

另外，根据本发明，在微光刻投射曝光设备中的反射镜的热致动利用进入通道实施，该进入通道从反射镜的不是光学有效表面的表面延伸入反射镜基板。利用该进入通道，用于热致动的电磁辐射可进入反射镜基板材料，而不会不利地影响反射镜的光学有效表面，而仅影响紧邻该光学有效表面处。

“热辐射装置可沿着进入通道致动”的措辞还包含热辐射装置的位置可仅沿着部分进入通道改变的实施例(例如，通过沿着进入通道的部分长度改变热辐射装置的前进位置)。

在一实施例中，布置具有操纵器，用于沿着进入通道改变热辐射装置的前进位置。

在一实施例中，热辐射装置为具有优选基本上针形几何形状的加热条。这在涉及的相对小结构空间方面尤其是有利的，例如能实现分面反射镜的单独分面的热致动。

在一实施例中，反射镜具有多个进入通道。此外，在一实施例中，布置具有多个热辐射装置，其布置成阵列。另外，在一实施例中，热辐射装置可选择性致动。因此，可提供位置解析的热致动，这对于实现由多个反射镜分面构成的分面反射镜的上述热致动尤其有利。在该实施例中，所述反射镜分面中的每一个可具有至少一个进入通道，其中热辐射装置可沿着所述进入通道致动。

在一实施例中，该布置具有至少两个不同几何形状的进入通道。

在一实施例中，至少一个进入通道具有与圆柱几何形状不同的几何形状。该几何形状可为例如锥形几何形状。然而，本发明不限于此，其它几何形状，例如各个进入通道的直径的阶梯式变化也是可能的。如果例如当使用锥形进入通道比使用圆柱形几何形状的进入通道能更好地实现在反射镜(例如分面反射镜)的指定(边缘)区域中的期望效应，则该几何形状可为有利的。

在一实施例中，至少一个热辐射装置还可关于进入通道的方向横向致动。