[发明专利]制造用于信息记录介质的玻璃衬底的方法

说明书

技术领域

本文中所描述的发明一般涉及制造用于信息记录介质的玻璃衬底的方法。

发明简述

本发明是鉴于下文所述的情形做出，并且本发明的目的是提供制造用于信息记录介质的玻璃衬底的方法，包括以下步骤：使用太阳-行星齿轮型（sun-and-planet gear type）抛光机一次抛光若干个玻璃衬底的抛光步骤；选择性确定抛光板的至少两个不同的环形区域并且控制抛光机所确定的环形区域的温度变化以抑制并且控制玻璃衬底的厚度变化。

为了实现以上目的，本发明公开了控制抛光工艺中的环境温度变化的方法，其中确定抛光机的至少两个不同的环形区域的温度变化，使得当相应地控制和抑制抛光板的不同区域之间的温度变化时能够控制和抑制厚度变化。

本发明的目的还在于确定抛光机的抛光板的至少两个不同的环形区域的温度变化不超过2℃。

通过根据本发明的该方法，抛光板的不同的环形区域上的玻璃衬底的表面能够被抛光以具有经抑制的厚度变化。

将在下文中更全面地描述并且在权利要求中具体地指出本发明的前述的以及其它的特征，以下说明详细地陈述了本发明的某些说明性实施方案，然而，这些说明性实施方案仅表示可以使用本发明的原理的各种方式中的几种方式。

背景技术

近年来，随着对信息记录装置如硬盘驱动器（HDD）容量的增加以及尺寸的降低的需求，随着信息社会和其他的进步已经提出了各种信息处理装置。为了增加记录能力，正在开发一种用于进一步降低磁头的飞行高度的技术以减小单位记录面积并且改善减弱的磁信号的检测灵敏度。为了测量磁头的飞行高度的降低并且保护记录面积，就平滑度和平整度的提高（划痕、突起、凹陷等的减少）而言，对于磁盘衬底的需求变得日益迫切。为了满足这样的需求，抛光处理起重要的作用。

理论上，在抛光处理中，如果抛光速率保持恒定，则抛光速率是厚度与所需的抛光时间之间的关系；即抛光量与抛光时间（处理时间）成比例。然而，在实际的工业应用中，尽管抛光时间根据适当的抛光速率与期望的厚度之间的关系被确定并且固定，然而，由于在抛光处理中的环境温度和/或抛光浆料的温度的变化，同一操作中衬底的抛光量可能波动。玻璃衬底的厚度的一致性可能由于温度变化而变化，高的温度导致抛光速率升高。这个缺点影响了玻璃衬底的表面的高度、平整度和平滑度的变化。

JPA2007-245265公开了用于具有高平滑度的磁盘的玻璃衬底的制造过程，该过程通过在向玻璃盘的表面提供抛光浆料时提供20℃或更低的抛光浆料的环境温度，或在完成抛光处理时提供30℃或更低的环境温度来实现。

在现有技术中，研究了如下方法：当执行玻璃衬底的抛光处理时，温度或抛光处理可能影响所抛光的对象的表面。本发明因此旨在解决抛光操作中的温度变化问题以抑制并且控制玻璃衬底的厚度变化。

发明详述

在以下描述中，为了解释的目的，陈述了大量具体细节以提供对本发明的原理的深入理解。然而对本领域技术人员而言明显的是，本原理可以在没有这些具体细节的情况下来实施。在说明书中对“实施方案”、“实施例”或类似语言的引用表示结合该实施方案或实施例描述的具体的特征、结构或特性被包括在至少所述的那一个实施方案中，但不一定在其他实施方案中。在说明书各个位置中的短语“在一种实施方案中”或类似短语的各种实例不一定都指代相同的实施方案。

通常，用于作为信息记录介质的磁盘的玻璃衬底（下文中简称为玻璃衬底）由玻璃加工件制成。玻璃衬底可以由包含SiO₂作为用于形成玻璃网络结构的主要成分的玻璃来形成。也可以使用其他成分如Al₂O₃、ZrO₃、CaO、BaO、LiO₂和Na₂O作为重要成分以有助于提高的玻璃化转变温度、改善的耐久性、玻璃结构的稳定性和改善的玻璃衬底的硬度。通过执行包括以下步骤的多个处理来制造衬底：

（1）成型研磨和倒角处理