[发明专利]在含水系统中抑制二氧化硅污垢形成和沉积的方法

权利要求书

1.一种在水系统中抑制二氧化硅和硅酸盐化合物的形成和沉积的方法，该方法包括在水系统的水中加入有效抑制量的一种或多种低分子量阴离子聚合物，该聚合物选自包括以下物质的组：丙烯酸均聚物；甲基丙烯酸和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物；甲基丙烯酸均聚物；丙烯酸和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物；丙烯酸和1-烯丙氧基-2-羟基丙烷磺酸的共聚物；马来酸酐均聚物；马来酸酐和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物；及它们的组合。

2.权利要求1的方法，其中所述的一种或多种低分子量聚合物具有约5,000Da至约200,000Da的重均分子量。

3.权利要求1的方法，其中所述的一种或多种低分子量聚合物为丙烯酸均聚物，其具有约5,000至约200,000Da的平均分子量。

4.权利要求1的方法，其中所述的一种或多种低分子量聚合物为甲基丙烯酸和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物，其具有约5,000至约7,000Da的平均分子量。

5.权利要求1的方法，其中所述的一种或多种低分子量聚合物为甲基丙烯酸均聚物，其具有约15,000Da的平均分子量。

6.权利要求1的方法，其中所述的一种或多种低分子量聚合物为丙烯酸和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物，其具有约5,000至约7,000Da的平均分子量。

7.权利要求1的方法，其中所述的一种或多种低分子量聚合物为丙烯酸和1-烯丙氧基-2-羟基丙烷磺酸的共聚物，其具有约32,000Da的平均分子量。

8.权利要求1的方法，其中所述的一种或多种低分子量阴离子聚合物包括利用羧基化和烷氧基化单体的水溶性均聚物和共聚物。

9.权利要求8的方法，其中所述的一种或多种低分子量聚合物包括丙氧基、乙氧基、羟基取代的烷基链及它们的组合。

10.权利要求9的方法，其中所述的一种或多种低分子量聚合物包括范围为约4～约20摩尔%的平均取代。

11.权利要求1的方法，其中所述的水系统选自冷却水系统、地热水系统、盐水脱盐系统、锅炉水系统、用于原油回收的井下水系统、纸浆和造纸厂水系统、采矿和矿物加工水系统。

12.权利要求1的方法，其中所述的水系统为冷却水系统。

13.权利要求1的方法，还包括向所述的水系统中加入一种或多种腐蚀抑制剂、阻垢剂或分散剂。

14.权利要求13的方法，其中所述的阻垢剂或分散剂选自包括以下物质的组：无机和有机多磷酸盐(酯)、膦酸盐(酯)、聚羧酸酯及它们的组合。