[发明专利]研磨剂的回收方法和研磨剂的回收装置

权利要求书

1.一种研磨剂的回收装置，其特征在于，其为从CMP工序中使用的使用过的研磨料浆中回收研磨剂的装置，所述研磨剂的回收装置具有用于导入所述使用过的研磨料浆的孔道为圆筒状的分离膜，所述分离膜的孔道的有效过滤部的长度为0.8m以下，所述研磨剂的回收装置将所述使用过的研磨料浆的研磨剂浓度浓缩至浓度为10质量%以上。

2.根据权利要求1所述的研磨剂的回收装置，其中，以横流方式将所述使用过的研磨料浆通水至所述分离膜的中空部。

3.根据权利要求1所述的研磨剂的回收装置，其中，所述分离膜设置在内压型的膜分离部。

4.根据权利要求1所述的研磨剂的回收装置，其中，所述分离膜为中空丝膜。

5.根据权利要求1所述的研磨剂的回收装置，其中，所述分离膜的内径为0.1mm～0.8mm。

6.根据权利要求1所述的研磨剂的回收装置，其中，所述分离膜的截留分子量为3000～30000。

7.根据权利要求1所述的研磨剂的回收装置，其中，所述分离膜由聚乙烯、四氟乙烯、聚偏氟乙烯、聚丙烯、醋酸纤维素、聚丙烯腈、聚酰亚胺、聚砜或聚醚砜中的任一种构成。

8.根据权利要求1或4所述的研磨剂的回收装置，其中，在所述分离膜的前段具有有效过滤长度比该分离膜长且孔道为圆筒状的前段分离膜。

9.根据权利要求8所述的研磨剂的回收装置，其中，所述前段分离膜的有效过滤部的长度L1为0.8～1.5m，设于所述前段分离膜后段的后段分离膜的有效过滤部的长度L2为0.2～0.8m。

10.一种研磨剂的回收方法，其特征在于，将在CMP工序中使用的使用过的研磨料浆通水至孔道为圆筒状且有效过滤部的长度为0.8m以下的分离膜，将所述使用过的研磨料浆的研磨剂浓度浓缩至浓度为10质量%以上。

11.根据权利要求10所述的研磨剂的回收方法，其中，以横流方式将所述使用过的研磨料浆通水至所述分离膜的中空部。

12.根据权利要求10所述的研磨剂的回收方法，其中，所述分离膜的内径为0.1mm～0.8mm。

13.根据权利要求10所述的研磨剂的回收方法，其中，所述分离膜的有效过滤部中的被处理水的循环流速为0.5～2m/秒。

14.根据权利要求10所述的研磨剂的回收方法，其中，导入至所述分离膜的所述使用过的研磨料浆的研磨剂浓度为0.02～5质量%。

15.根据权利要求10所述的研磨剂的回收方法，其中，具有以下工序：

第1过滤工序，将CMP工序中使用的使用过的研磨料浆通水至孔道为圆筒状的前段分离膜中，对所述使用过的研磨料浆进行浓缩，和，

第2过滤工序，将所述第1分离膜的浓缩水通水至有效过滤部的长度为0.8m以下的后段分离膜中进行浓缩；

作为所述前段分离膜，使用具有有效过滤长度长于所述后段分离膜的分离膜。

16.根据权利要求15所述的研磨剂的回收方法，其中，在所述第1过滤工序中，对使用过的研磨料浆进行过滤、浓缩至最大为13质量%；在所述第2过滤工序中，对所述第1过滤工序中获得的浓缩水进行过滤、浓缩至最大为26质量%。

17.根据权利要求15所述的研磨剂的回收方法，其中，导入至所述前段分离膜的所述使用过的研磨料浆的研磨剂浓度为0.02～5质量%。

18.根据权利要求10或15所述的研磨剂的回收方法，其中，所述使用过的研磨料浆中所含的研磨剂粒子的平均粒径为0.01～1μm。