[发明专利]用于处理排放流体的装置

权利要求书

1.一种用于处理排放流体的装置，其中该装置将在用于制造半导体、显示面板或太阳能电池的装置的处理室中产生的流体排放到外部，其中用于处理排放流体的所述装置包括：

真空泵，其连接到所述处理室，将所述处理室的内部抽成真空，并且将在所述处理室中产生的所述流体排放到外部；以及

等离子体反应器，在其中形成等离子体并且将在所述处理室中产生的流体分解，

其中所述等离子体反应器包括：

绝缘导管，其设置在所述处理室与所述真空泵之间并且设有所述流体在其中分解的空间；

至少一个电极单元，其设置在所述导管的外周边表面上并且接收形成等离子体的电压；以及

缓冲单元，其由导电弹性物质形成并且布置在所述导管与所述电极单元之间，以将所述导管与所述电极单元紧密地附接在一起。

2.根据权利要求1所述的用于处理排放流体的装置，其中所述导管由高介电常数介电物质形成。

3.根据权利要求1所述的用于处理排放流体的装置，其中所述电极单元具有围绕所述导管的预定长度的环形形状。

4.根据权利要求3所述的用于处理排放流体的装置，其中所述缓冲单元形成在所述电极单元的内表面上以具有围绕所述导管的环形形状，并且由导电弹性材料形成。

5.根据权利要求1所述的用于处理排放流体的装置，其中所述等离子体反应器还包括：

外管，所述导管插入到其中，以及

密封凸缘，其设置在所述导管与所述外管的两个端部上以密封在所述导管与所述外管之间的空间。

6.根据权利要求1所述的用于处理排放流体的装置，其中所述等离子体反应器还包括设置在所述导管与外管之间的传感器单元以探测从所述导管泄漏出的所述流体。

7.根据权利要求1所述的用于处理排放流体的装置，其中所述等离子体反应器还包括设置在外管的外周边表面上的冷却单元以防止过度加热电极单元。

8.根据权利要求1所述的用于处理排放流体的装置，其中所述等离子体反应器还包括将交流(AC)电压施加到所述电极单元的供电单元。

9.根据权利要求1所述的用于处理排放流体的装置，其中设有多个所述等离子体反应器，并且多个所述等离子体反应器以串联或并联布置连接在所述处理室与所述真空泵之间。

10.根据权利要求1所述的用于处理排放流体的装置，还包括设置在所述处理室与所述等离子体反应器之间的辅助泵以增加所述真空泵的排放速度。

11.根据权利要求10所述的用于处理排放流体的装置，其中设有多个所述等离子体反应器，并且多个所述等离子体反应器以串联或并联布置连接在所述辅助泵与所述真空泵之间。