[发明专利]具有掺杂层的光电子元件有效

专利信息
申请号: 201180062933.8 申请日: 2011-12-22
公开(公告)号: CN103314461A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 安德烈·韦斯;贝尔特·梅尼希;甘特·马特斯泰格 申请(专利权)人: 赫里亚泰克有限责任公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;全万志
地址: 德国德*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 掺杂 光电子 元件
【权利要求书】:

1.一种有机电子元件或有机光电子元件,其具有电极和对电极以及在所述电极与所述对电极之间的层系统,所述层系统包含至少一个有机层和至少一个掺杂层,其特征在于,以氟离子亲和力为度量,在所述掺杂层中的掺杂剂是与五氟化锑(SbF5)相比较强的Lewis酸或是与1,8-双(二甲基氨基)萘相比较强的Lewis碱。

2.根据权利要求1所述的元件,其特征在于所述掺杂剂是有机化合物、有机金属化合物或无机化合物。

3.根据权利要求1或2所述的元件,其特征在于所述掺杂剂具有至少10、优选至少20、更优选大于30并且至多100个原子。

4.根据权利要求3所述的元件,其特征在于所述掺杂剂是三(全氟-叔丁氧基)-铝(III)。

5.根据权利要求3所述的元件,其特征在于,所述掺杂剂是通式为H(CB11H12-nXn)的碳硼烷酸,特别是H(CB11H6X6)或H(CHB11X11),其中X选自Cl、Br、I、F、CF3及其组合,并且n是整数0至12。

6.根据权利要求3所述的元件,其特征在于,所述掺杂剂是[R][碳硼烷]或[R3-aHaSi][碳硼烷]化合物,特别是[R3C][碳硼烷]或[R3Si][碳硼烷]化合物,其中a是整数0至2,并且R是烷基、芳基或杂芳基,[碳硼烷]是[CB11R′12-nXn]-,特别是[CHB11R′5X6]-,R′是H、CH3,并且X是卤素,n是整数0至12。

7.根据权利要求3所述的元件,其特征在于所述掺杂剂是来自具有下式的五氟苯基酰胺类的金属化合物:

其中M是金属,优选地选自Co、Ni、Pd和Cu。

8.根据权利要求3所述的元件,其特征在于,所述掺杂剂是式[R3Si-X-SiR3]+[BAr4]-的化合物,其中R独立地选自C1-C10-烷基、C3-C10-芳基或杂芳基和/或两个相邻的R基团一起形成饱和或不饱和的环,X是卤素,并且Ar是卤化的、优选地氟化的芳基或杂芳基。

9.根据权利要求3所述的元件,其特征在于所述掺杂剂是式((R2N)2-C=N)n-Ar的化合物,其中R独立地为C1-C5-烷基,在每种情况下为取代的或未取代的,其中两个相邻的R可以彼此连接,并且Ar是芳基或杂芳基,但优选为苯基、萘基或蒽基,并且n是整数,优选为2、3或4。

10.根据权利要求3所述的元件,其特征在于所述掺杂剂是式((RmX)-NC)nY或((RmX)-NC)nY-M+的化合物,其中在每种情况下R是取代的或未取代的C1至C10-烷基、卤化的C1至C10-烷基、卤素基、具有3至14个芳族原子的C3至C14-芳基或杂芳基;X选自C、B、Si;Y选自C、B、Al;M是任何阳离子,并且n和m分别为整数,使得分子对外部是不带电的。

11.根据前述权利要求中任一项所述的元件,其特征在于,所述掺杂剂以按质量计至多35%、但优选为至多30%的比例存在于所述层中。

12.根据前述权利要求中任一项所述的元件,其特征在于,所述元件是OLED、有机太阳能电池、场效应晶体管(OFET)或光电检测器。

13.化合物用于在有机电子元件或有机光电子元件中作为单层以及用于掺杂电荷载流子传输层或有源层的用途,以氟离子亲和力(FIA)为度量,所述化合物为与五氟化锑(SbF5)相比较强的Lewis酸或与1,8-双(二甲基氨基)萘相比较强的Lewis碱。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赫里亚泰克有限责任公司,未经赫里亚泰克有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180062933.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top