[发明专利]偏二氟乙烯以及三氟乙烯聚合物

权利要求书

1.氟聚合物[聚合物（F）]，包括：

-衍生自偏二氟乙烯（VDF）的重复单元；

-按摩尔计从10%至50%的衍生自三氟乙烯（TrFE）的重复单元；以及

-按摩尔计从0.01%至10%的衍生自至少一种具有以下式(I)的(甲基)丙烯酸系单体[单体（MA）]的重复单元：

其中：

-R₁、R₂和R₃彼此相同或不同、独立地选自氢原子和C₁-C₃烃基；并且

-R_OH代表氢原子或包括至少一个羟基的C₁-C₅烃部分，

所述聚合物（F）包括式-CF₂H和/或-CF₂CH₃的端基。

2.如权利要求1所述的氟聚合物，其中该(甲基)丙烯酸系单体（MA）是丙烯酸（AA）或丙烯酸羟乙基酯（HEA）。

3.如权利要求1或2所述的氟聚合物，进一步包括衍生自一种或多种其他氟化的共聚单体[共聚单体(F)]的重复单元。

4.如权利要求1至3中任一项所述的氟聚合物，包括式-CF₂H和/或-CF₂CH₃的端基，其量为小于30毫摩尔每Kg的VDF重复单元，优选小于20毫摩尔每Kg的VDF重复单元。

5.如权利要求1至3中任一项所述的氟聚合物，包括式-CF₂H和/或-CF₂CH₃的端基，其量为至少30毫摩尔每Kg的VDF重复单元。

6.如权利要求5所述的氟聚合物，由以下组成：

-按摩尔计从40%至85%，优选按摩尔计从45%至83%的衍生自偏二氟乙烯（VDF）的重复单元，

-按摩尔计从10%至50%，优选按摩尔计从15%至48%的衍生自三氟乙烯（TrFE）的重复单元，以及

-按摩尔计从0.01%至1%，优选按摩尔计从0.02%至0.8%的衍生自至少一种(甲基)丙烯酸系单体（MA）的重复单元，该单体具有如权利要求1中说明的式(I)。

7.如权利要求5所述的氟聚合物，由以下组成：

-按摩尔计从40%至85%，优选按摩尔计从45%至80%的衍生自偏二氟乙烯（VDF）的重复单元，

-按摩尔计从10%至50%，优选按摩尔计从15%至48%的衍生自三氟乙烯（TrFE）的重复单元，

-按摩尔计从2%至20%，优选按摩尔计从4%至15%的衍生自氯三氟乙烯（CTFE）的重复单元，以及

-按摩尔计从0.01%至1%，优选按摩尔计从0.02%至0.8%的衍生自至少一种(甲基)丙烯酸系单体（MA）的重复单元，该单体具有如权利要求1中说明的式(I)。

8.用于制造如权利要求1所述的氟聚合物的方法，所述方法包括在聚合介质中在至少一种自由基引发剂的存在下使偏二氟乙烯（VDF）、三氟乙烯（TrFE）、具有如权利要求1中说明的式(I)的至少一种(甲基)丙烯酸系单体（MA）、以及任选地一种或多种其他氟化共聚单体（F）进行聚合，该聚合介质包括：

-水，

-至少一种氟表面活性剂[表面活性剂（FS）]，以及

-至少一种非官能全氟聚醚（PFPE）油。

9.如权利要求8所述的方法，其中使用一种或多种有机自由基引发剂与一种或多种无机自由基引发剂的混合物，该无机自由基引发剂优选是过硫酸铵。

10.如权利要求1所述的氟聚合物在电气和电子器件中作为铁电、压电、热电或介电材料的用途。

11.根据权利要求10所述的用途，其中该氟聚合物处于具有最多100μm的，优选最多60μm的，更优选最多40μm的厚度的膜或片的形式。