[发明专利]具有方向依赖性流阻的井下流体流动控制系统及方法

权利要求书

1.一种井下流体流动控制系统，包括：

流动控制部件，其具有方向依赖性流阻，使得沿第一方向流经所述流动控制部件的产出流体流经历第一压降，而沿第二方向流经所述流动控制部件的注入流体流经历第二压降，所述第一压降与所述第二压降不同。

2.如权利要求1所述的流动控制系统，其中，所述流动控制部件还包括外部流动控制元件、内部流动控制元件和喷嘴元件。

3.如权利要求1所述的流动控制系统，其中，所述流动控制部件还包括涡流室。

4.如权利要求3所述的流动控制系统，其中，进入所述涡流室的产出流体流主要沿切向方向流动。

5.如权利要求3所述的流动控制系统，其中，进入所述涡流室的注入流体流主要沿径向方向流动。

6.如权利要求1所述的流动控制系统，其中所述第一压降大于所述第二压降。

7.一种流动控制筛，包括：

基管，具有内通道、无孔管段和射孔段；

过滤介质，位于所述基管的无孔管段周围；

壳体，位于所述基管周围，所述基管限定所述过滤介质与所述内通道之间的流体流路；以及

至少一个流动控制部件，被设置在所述流体流路内；

其中，所述至少一个流动控制部件具有方向依赖性流阻，使得在所述流体流路中从所述过滤介质流到所述内通道的产出流体流经历第一压降，而在所述流体流路中从所述内流道流到所述过滤介质的注入流体流经历第二压降；而且

其中，所述第一压降与所述第二压降不同。

8.如权利要求7所述的流动控制筛，其中，所述至少一个流动控制部件还包括多个被设置在所述流体流路内的流动控制部件。

9.如权利要求8所述的流动控制筛，其中，所述流动控制部件绕所述基管在周向上分布。

10.如权利要求7所述的流动控制筛，其中，所述至少一个流动控制部件还包括外部流动控制元件、内部流动控制元件和喷嘴元件。

11.如权利要求7所述的流动控制筛，其中，所述至少一个流动控制部件还包括涡流室。

12.如权利要求11所述的流动控制筛，其中，进入所述涡流室的产出流体流主要沿切向方向流动。

13.如权利要求11所述的流动控制筛，其中，进入所述涡流室的注入流体流主要沿径向方向流动。

14.如权利要求7所述的流动控制筛，其中，所述第一压降大于所述第二压降。

15.一种流动控制筛，包括：

基管，具有内通道、无孔管段和射孔段；

过滤介质，位于所述基管的无孔管段周围；

壳体，位于所述基管周围，所述基管限定所述过滤介质与所述内通道之间的流体流路；以及

流动控制段，位于所述基管的射孔段周围，所述流动控制段包括多个具有方向依赖性流阻的流动控制部件，使得从所述过滤介质流到所述内通道的产出流体流经历第一压降，而从所述内通道流到所述过滤介质的注入流体流经历第二压降，所述第一压降与所述第二压降不同。

16.如权利要求15所述的流动控制筛，其中，所述流动控制部件绕所述基管在周向上分布。

17.如权利要求15所述的流动控制筛，其中，每个所述流动控制部件还包括外部流动控制元件、内部流动控制元件和喷嘴元件。

18.如权利要求15所述的流动控制筛，其中，每个所述流动控制部件还包括涡流室。

19.如权利要求18所述的流动控制筛，其中，进入所述涡流室的产出流体流主要沿切向方向流动。

20.如权利要求18所述的流动控制筛，其中，进入所述涡流室的注入流体流主要沿径向方向流动。

21.一种井下流体流动控制方法，包括：

将设有具有方向依赖性流阻的流动控制部件的流体流动控制系统定位于井下目标位置；

从地表沿第一方向将处理流体经过所述流动控制部件泵送到地层，使得所述处理流体经历第一压降；以及

将地层流体沿第二方向经过所述流动控制部件产出到地表，使得所述地层流体经历第二压降；

其中，所述第一压降与所述第二压降不同。