[发明专利]玻璃基板

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃基板。

背景技术

提出了各种测量玻璃基板内的缺陷的高度方向位置等的方法。

作为测量玻璃基板内的缺陷的高度方向位置的一般方法，有拍摄缺陷时调节相机的焦点来测量缺陷的高度方向位置的方法。方便起见将该方法称为第1测量方法。图13A是示意地表示第1测量方法的说明图。在第1测量方法中，如图13A所示，在使光通过玻璃基板82的状态下传送玻璃基板82。另外，用线性相机81拍摄被传送的玻璃基板82的内部。若玻璃基板82的内部存在缺陷83，则拍摄缺陷83。图13B表示所拍摄到的缺陷的图像的例。图13A中，用长方形示意地表示缺陷83，图13B中也用长方形表示在玻璃基板的图像内显现的缺陷的像86，但缺陷的形状并不限定于长方形。然而，在以下所示的图14A、图14B、图15A、图15B、图16、图17中也用长方形示意地表示缺陷。此外，图13B所示的箭头为玻璃基板82的传送方向。用线性相机81拍摄玻璃基板82的内部时，调节相机的焦点，使缺陷的存在位置与相机的焦点一致，测量从线性相机81到缺陷的绝对距离，并基于该距离计算缺陷的高度方向位置。作为调节相机的焦点以使缺陷的存在位置与相机的焦点一致的方法，有DFF(Depth from Focus，对焦深度)法等。另外，关于缺陷的尺寸，对所拍摄到的图像进行图像处理来测量缺陷的尺寸。

例如在专利文献1～3等记载了调节相机的焦点来测量缺陷的高度方向位置的方法、装置。

另外，作为测量玻璃基板内的缺陷的高度方向位置的其他一般方法，有如下方法：利用入射到玻璃基板的光的反射光在两个位置拍摄同一缺陷，根据结果得到的两个像的位置关系测量缺陷的高度方向位置。方便起见将该方法记作第2测量方法。图14A是示意地表示第2测量方法的说明图。在第2测量方法中，例如，如图14A所示，在玻璃基板82上，使光在与线性相机81相同的一侧入射，以使其反射光到达线性相机81。另外，传送玻璃基板82并用线性相机81拍摄玻璃基板82的内部。玻璃基板内的光的路径将在之后参照图16的上层所示的侧视图进行说明。缺陷83随玻璃基板82的传送一起移动，在缺陷83与反射前的光的路径重叠时以及缺陷83与反射后的光的路径重叠时，分别在线性相机81中被捕捉为像。结果，即使是一个缺陷83，在所拍摄到的图像中也显现出两个像。图14B是通过第2测量方法所拍摄到的图像的例。如图14B所示，对同一缺陷显现出两个像84、85。在第2测量方法中，根据图14B所例示的图像中的两个像的位置关系，计算缺陷83的高度方向位置。另外，关于缺陷的尺寸，对所拍摄到的图像进行图像处理来测量缺陷的尺寸。此外，图14B所示的箭头为玻璃基板82的传送方向。

例如专利文献4～6、8等记载了利用入射到透明基板等的光的反射光在两个位置拍摄同一缺陷，根据两个像的位置关系来测量缺陷的高度方向位置的方法、装置。

另外，有如下方法：在玻璃基板的两面，与第2测量方法同样地拍摄图像，根据在玻璃基板的各个面所拍摄到的图像内的像的位置关系来测量缺陷的高度方向位置。方便起见将该方法记作第3测量方法。图15A是示意地表示第3测量方法的说明图。在第3测量方法中，例如，如图15A所示，在玻璃基板82上，使光在与第1线性相机81_a相同的一侧入射，以使其反射光到达第1线性相机81_a。同样地，使光在与第2线性相机81_b相同的一侧入射，以使其反射光到达第2线性相机81_b。另外，传送玻璃基板82并用第1线性相机81_a及第2线性相机81_b分别拍摄玻璃基板82的内部。这样一来，在第1线性相机81_a，与第2测量方法的情况相同地捕捉到两个像。另外，在第2线性相机81_b也捕捉到两个像。图15B是通过第3测量方法所拍摄到的图像的例。在第3测量方法中，如图15B所示，获得一个线性相机从玻璃基板的上侧拍摄到的图像和另一个线性相机从玻璃基板的下侧拍摄到的图像。在各图像中均分别显现出两个像。在第3测量方法中，根据从玻璃基板的上侧及下侧拍摄到的各图像中的像的位置关系，计算缺陷83的高度方向位置。此外，图15B例示在从上侧拍摄的图像中像重叠的情况。另外，关于缺陷的尺寸，对所拍摄到的图像进行图像处理来测量缺陷的尺寸。此外，图15B所示的箭头为玻璃基板82的传送方向。

例如专利文献7记载了从透明基板等的两侧拍摄图像从而求出缺陷的高度方向位置的方法。