[发明专利]耐磨涂层、包含该耐磨涂层的产品以及涂覆该耐磨涂层的方法有效
申请号: | 201180058513.2 | 申请日: | 2011-10-05 |
公开(公告)号: | CN103237920A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | D·A·史密斯;J·B·马特拉泽;P·H·西尔维斯;G·A·贝伦;M·E·辛吉斯 | 申请(专利权)人: | 西尔科特克公司 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/18;C23C16/40;C23C16/56;C23C30/00;C23C16/30 |
代理公司: | 北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙) 11367 | 代理人: | 谢亮;王志刚 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 耐磨 涂层 包含 产品 以及 方法 | ||
1.一种耐磨涂层,包含由三甲基硅烷处理过的涂层。
2.如权利要求1所述的涂层,其特征在于:所述涂层包含已分解的二甲基硅烷组分。
3.如权利要求1所述的涂层,其特征在于:所述涂层包含被氧化的已分解的二甲基硅烷组分。
4.如权利要求3所述的涂层,其特征在于:所述涂层包含功能化的已分解的二甲基硅烷组分。
5.如权利要求1所述的涂层,其特征在于:所述涂层包含一个含有大量且稳定浓度的硅、氧和碳区域。
6.如权利要求1所述的涂层,其特征在于:所述涂层由化学气相沉积法加工而成,该方法包括:
在化学气相沉积法沉积室内准备基材;
在化学气相沉积法沉积室内热分解二甲基硅烷;
在基材表面沉积已分解的二甲基硅烷组分;以及
在有三甲基硅烷存在的情况下,对基材至少一个面进行加热处理。
7.如权利要求6所述的涂层,进一步包括利用氧化剂氧化热分解组分。
8.如权利要求7所述的涂层,其特征在于:所述氧化剂包括空气。
9.如权利要求8所述的涂层,其特征在于:所述空气为零级空气。
10.如权利要求7所述的涂层,其特征在于:所述氧化剂包括氮气。
11.如权利要求7所述的涂层,其特征在于:所述氧化剂包括水。
12.如权利要求7所述的涂层,其特征在于:所述氧化剂包括空气和水。
13.如权利要求1所述的涂层,其特征在于:所述涂层的耐磨度约为13 x 10-5 mm3/Nm至约0.5 x 10-5 mm3/Nm。
14.如权利要求1所述的涂层,其特征在于:所述涂层的摩擦系数约为0.58至0.05。
15.一种耐磨涂层,应用于产品的至少一个面以减少产品的表面磨损,其特征在于:所述涂层的耐磨度为13 x 10-5 mm3/Nm至0.5 x 10-5 mm3/Nm。
16.一种产品,至少一个面涂覆有耐磨涂层,所述涂层包含由三甲基硅烷处理过的涂层。
17.如权利要求16所述的产品,其特征在于:所述产品与另一产品接触并作往复运动。
18.如权利要求17所述的产品,其特征在于:所述产品为活塞头或活塞筒。
19.如权利要求16所述的产品,其特征在于:所述产品包含一个确定流体流动的流体接触面,其中所述耐磨涂层涂覆于流体接触面上。
20.如权利要求16所述的产品,其特征在于:所述产品为钻孔工具。
21.如权利要求16所述的产品,其特征在于:所述涂层通过化学气相沉积法利用二甲基硅烷的热分解进行涂覆。
22.如权利要求21所述的产品,其特征在于:所述已分解的二甲基硅烷组分在三甲基硅烷处理前被氧化。
23.如权利要求22所述的产品,其特征在于:所述已分解的二甲基硅烷组分被功能化。
24.如权利要求16所述的产品,其特征在于:所述耐磨涂层的厚度为100 nm到10,000 nm。
25.如权利要求16所述的产品,其特征在于:所述耐磨涂层的耐磨度为13 x 10-5 mm3/Nm到0.5 x 10-5 mm3/Nm。
26.如权利要求16所述的产品,其其特征在于:所述耐磨涂层的摩擦系数约为0.58至0.05。
27.如权利要求16所述的产品,其特征在于:所述耐磨涂层涂覆于所述产品的移动表面上。
28.如权利要求16所述的产品,其特征在于:所述耐磨涂层涂覆于所述产品的固定表面上。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的