[发明专利]显影剂和其用于制备平版印刷版的用途无效

专利信息
申请号: 201180058206.4 申请日: 2011-11-30
公开(公告)号: CN103229106A 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: B.施特勒梅尔;O.皮斯特尔特;H.鲍曼 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03F7/32 分类号: G03F7/32;B41C1/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张萍;李炳爱
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显影剂 用于 制备 平版印刷 用途
【权利要求书】:

1.一种用于处理成像的阴图制版平版印刷版前体的水性显影剂组合物,所述显影剂具有至少4并至多且包括13的pH,并且包含以下(a)和(b)两者:

(a)至少1重量%的量的至少一种乙二醇/丙二醇嵌段共聚物,和

(b)至少1重量%的总量的选自由以下(i)、(ii)和(iii)化合物组成的组的一种或更多种化合物:

(i)具有式H(HCHO)n+1H的至少一种非还原糖醇,其中n为5或6,

(ii)具有式H(HCHO)nHCO的至少一种非还原单糖,其中n为5或6,和

(iii)具有式H(HCHO)nHCO的至少一种非还原低聚糖,其中n为5或6。

2.如权利要求1所述的水性显影剂组合物,其中所述嵌段共聚物与所述总的(i)、(ii)和(iii)化合物的重量比为1:20至20:1。

3.如权利要求1或2所述的水性显影剂组合物,其中所述(ii)和(iii)化合物选自由以下组成的组:甘露糖、乳糖、木糖、脱氧核糖、核酮糖、葡萄糖、果糖、呋喃糖、吡喃糖、蔗糖、半乳糖、麦芽糖、棉子糖、D,L-阿拉伯糖醇、核糖醇、山梨糖醇和D,L-木糖醇、D,L-甘露醇、D,L-塔罗糖醇、内消旋肌醇、卫矛醇和同分异构卫矛醇。

4.如权利要求1至3中任一项所述的水性显影剂组合物,其中(i)、(ii)和(iii)化合物的总量为至少1并至多且包括20重量%的量。

5.如权利要求1至4中任一项所述的水性显影剂组合物,其中所述乙二醇/丙二醇嵌段共聚物以至少1并至多且包括20重量%的量存在。

6.如权利要求1至5中任一项所述的水性显影剂组合物,其中所述乙二醇/丙二醇嵌段共聚物具有至少400并至多且包括15,000的重量平均分子量。

7.如权利要求1至6中任一项所述的水性显影剂组合物,具有至少4并至多且包括11的pH。

8.如权利要求1至7中任一项所述的水性显影剂组合物,进一步包含至少0.5并至多且包括5重量%的量的阴离子型表面活性剂。

9.权利要求1至8中任一项所述的水性显影剂组合物,其不含硅酸盐和正硅酸盐。

10.一种提供平版印刷版的方法,包含:

A)成像曝光具有亲水性基材和安置在所述亲水性基材上的可成像层的阴图制版平版印刷版前体,以在所述成像曝光前体的可成像层中提供曝光区域和未曝光区域,

所述可成像层包含自由基可聚合组份、在成像曝光之后提供自由基的引发剂组合物、辐射吸收化合物和聚合物粘结剂,和

B)在有或没有预热步骤下,用权利要求1至9中任一项所述的水性显影剂组合物处理所述成像曝光前体,以去除所述可成像层中的未曝光区域。

11.如权利要求10所述的方法,其中所述成像和显影的平版印刷版用于印刷,在所述显影步骤之后没有任何另外的溶液处理。

12.如权利要求10或11所述的方法,其中处理步骤B通过使用新鲜份的所述水性显影剂组合物的间歇或连续补充来进行。

13.如权利要求12所述的方法,其中所述水性显影剂组合物仅用水补充。

14.如权利要求10或11所述的方法,其中处理步骤B在所述水性显影剂组合物没有任何补充下进行。

15.一种试剂盒,包含:

具有亲水性基材和安置在所述亲水性基材上的可成像层的一种或更多种阴图制版平版印刷版前体,和权利要求1至9中任一项所述的水性显影剂组合物,所述可成像层包含自由基可聚合组份、在成像曝光之后提供自由基的引发剂组合物、辐射吸收化合物和聚合物粘结剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊斯曼柯达公司,未经伊斯曼柯达公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180058206.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top